新闻中心

EEPW首页 > EDA/PCB > 业界动态 > IBM取得芯片生产工艺突破摩尔定律得延续

IBM取得芯片生产工艺突破摩尔定律得延续

——
作者:时间:2006-02-22来源:收藏
 据国外媒体报道,宣布,该公司已经开发出193纳米DUV(deep-ultraviolet optical lithography)技术,可以用于生产只有29.9纳米见方的电路,相当于当前主流芯片的三分之一。目前,英特尔最新的Core Solo和Core Duo处理器采用了65纳米生产工艺,而AMD处理器仍然采用90纳米制程。

  从某种意义上讲,的新技术为“”继续生效扫清了障碍。英特尔联合创始人高顿-摩尔(Gordon Moore)1965年提出,单位面积芯片上的晶体管数量大约每两年增加一倍,这就是著名的。多年以来,芯片产业的发展一直遵循着这一规律。大多数业内人士认为,至少在2015年之前,将继续生效。

  目前密度最大的计算机内存芯片可以存储40亿位信息,随着摩尔定律的延伸,2013年计算机内存芯片将可以存储640亿位信息。按照当前的标准,这类芯片将可以存储大约2000首歌曲。随着电路体积越来越小,当前生产工艺已经接近物理极限。因此,近年来业界一直在寻找新方法,希望突破生产工艺瓶颈,生产出速度更快、性能更高的芯片。

  来自公司的罗伯特-阿伦(Robert D. Allen)博士表示,IBM的新技术为整个芯片行业赢得了七年的“喘息”时间。七年之后,要使摩尔定律继续生效,必须有更加先进的技术出现。从短期来看,IBM的新技术可以为整个芯片行业节省数十亿美元的研发支出。当然,一旦这项技术成为“过去式”,芯片行业必须重新上路,寻找新的替代方法。


评论


相关推荐

技术专区