由美国波音公司和通用汽车公司拥有的研发实验室-HRL实验室已经宣布其实现互补金属氧化物半导体(CMOS)FET技术的首次展示。该研究结果发表于2016年1月6日的inieee电子器件快报上。
在此过程中,该实验室已经确定半导体的卓越晶体管性能可以在集成电路中加以利用。这一突破为氮化镓成为目前以硅为原材料的电源转换电路的备选技术铺平了道路。
氮化镓晶体管在电源开关和微波/毫米波应用中有出色的表现,但该潜力还未用于集成功率转换。“除非快速切换GaN功率晶体管在电源电路中故意放缓,否
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GaN 场效应晶体管
第五届EEVIA年度中国ICT媒体论坛暨2016产业和技术展望研讨会 时间:2016.01.14 下午 地点:深圳南山软件创业基地 IC咖啡 演讲主题: 新型GaN功率器件的市场应用趋势 演讲嘉宾: 蔡振宇 富士通电子元器件市场部高级经理 主持人:接下来开始第三场演讲。大家知道无论消费电子产品还是通讯硬件、电动车以及家用电器,提升电源的转换能效、功率密度、延长电池使用的时间,这已经是比较大的挑战了。所有这一切都意味着电子产业会越来越依赖新型功
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GaN 功率器件
未来虚拟现实和智能汽车成为焦点,VR将会引发的变革成了全产业链热议的话题,VR也必会给物联网产业带来变革,而对于IoT可能带来的更多变化,半导体厂商该如何应对?
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物联网 GaN
近年,以氮化镓(GaN)、碳化硅(SiC)等宽禁带化合物为代表的第三代半导体材料在引发全球瞩目,成为全球半导体研究前沿和热点,中国也不例外地快马加鞭进行部署。有专家指出,第三代半导体材料是以低碳和智能为特征的现代人类信息化社会发展的基石,是推动节能减排、转变经济发展方式,提升新一代信息技术核心竞争力的决定性因素之一,有着不可替代的支撑作用。那么,这一迅速崛起的第三代半导体材料,能否让中国掌控新一轮半导体照明发展的话语权?
第三代半导体材料双雄:SiC和GaN
半
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半导体 GaN
全球SiC领先者CREE推出了业界首款900V MOSFET:C3M0065090J。凭借其最新突破的SiC MOSFET C3MTM场效应晶体管技术,该n沟道增强型功率器件还对高频电力电子应用进行了优化。超越同样成本的Si 基方案,能够实现下一代更小尺寸、更高效率的电力转换系统,并大幅降低了系统成本。C3M0065090J突破了电力设备技术,是开关模式电源(spm)、电池充电器、太阳能逆变器,以及其他工业高电压应用等的电源管理解决方案。
世强代理的该900V SiC具有更宽的终端系统功率范围,
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世强 SiC
DIGITIMES Research观察,传统以块体矽(Bulk Si)材料为基础的功率半导体逐渐难提升其技术表现,业界逐渐改以新材料寻求突破,其中氮化镓(GaN)、碳化矽(SiC)材料技术最受瞩目,氮化镓具有更高的切换频率,碳化矽则能承受更高温、更大电流与电压,而原有的矽材仍有成本优势,预计未来功率半导体市场将三分天下。
更高的耐受温度、电压,或更高的切换频率、运作频率,分别适用在不同的应用,对于电动车、油电混合车、电气化铁路而言需要更高电压,对于新一代的行动通讯基地台,或资料中心机房设备而言
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GaN SiC
2016年11月16日-21日,全球知名半导体制造商ROHM亮相在深圳举办的“第十七届高交会电子展(ELEXCON 2015)”。在本次展会上展出了ROHM所擅长的模拟电源、业界领先的SiC(碳化硅)元器件为首的功率元器件、种类繁多的汽车电子、以及能够为IoT(物联网)的发展做出贡献的传感器网络技术和小型元器件等品类众多,并且融入了最尖端技术的产品。ROHM所带来的高新领先技术、强势多元化的产品、以及多种解决方案,受到来场参观者的广泛好评。 ROHM模拟电源“领衔”业内标准 近年来,全世
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ROHM SiC
硅基GaN潜力大
近日,MACOM在京召开新闻发布会,MACOM全球销售高级副总裁黄东铉语出惊人,“由MACOM发明的第四代GaN——硅基GaN,由于成本大为降低,将取代目前的SiC基GaN;由于硅基GaN的效率大大提升,也将取代GaA和LDMOS的大部分市场。”
图1 GaN的巨大潜力
如图1,左图绿饼是目前GaN的市场份额;如果把绿饼看成一张饼,就变成右图,右图的绿饼是目前GaN的市场,而未来潜在GaN射频是占绝大部分的蓝海。
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GaAs GaN
2015年3月份,一份由国家能源局制定的草案引爆了整个新能源汽车圈,没错,这份众人期盼已久的草案就是《电动汽车充电基础设施建设规划》。该草案的完成对于汽车充电设施制造商带来说堪称一场“及时雨”。草案提到2020年国内充换电站数量要达到1.2万个,充电桩达到450万个,这意味着一个千亿级市场将在国内的充电行业产生。
充电桩通常被誉为新能源汽车的“加油站”,可以固定在墙壁或地面,根据不同的电压等级为各种型号的电动汽车充电。如图1所示,目前的充电桩可以提
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Cree SiC
简介
功率氮化镓 (GaN) 器件是电源设计人员工具箱内令人激动的新成员。特别是对于那些想要深入研究GaN的较高开关频率如何能够导致更高频率和更高功率密度的开发人员更是如此。RF GaN是一项已大批量生产的经验证技术,由于其相对于硅材料所具有的优势,这项技术用于蜂窝基站和数款军用/航空航天系统中的功率放大器。在这篇文章中,我们将比较GaN FET与硅FET二者的退化机制,并讨论波形监视的必要性。
使用寿命预测指标
功率GaN落后于RF GaN的主要原因在于需要花时间执行数个供货商所使
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GaN
Si MOSFET管因为其输入阻抗高,随着其反向耐压的提高,通态电阻也急剧上升,从而限制了其在高压场合的应用。SiC作为一种宽禁代半导体器件,具有饱和电子漂移速度高、电场击穿强度高、介电常数低和热导率高等特性。世强代理的Wolfspeed的SiC MOSFET管具有阻断电压高、工作频率高且耐高温能力强,同时又具有通态电阻低和开关损耗小等特点,是高频高压场合功率密度提高和效率提高的应用趋势。
SiC与Si性能对比
简单来说,SiC主要在以下3个方面具有明显的优势为:击穿电压强度高(10倍于S
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SiC MOSFET
当人们思考电力电子应用将使用哪种宽禁带(WBG)半导体材料时,都会不约而同地想到氮化镓(GaN)或碳化硅(SiC)。这不足为奇。因为氮化镓或碳化硅是电力电子应用中最先进的宽禁带技术。市场研究公司Yole Développement在其报告中指出,电力电子应用材料碳化硅、氮化镓和其他宽禁带材料具有一个更大的带隙,可以进一步提高功率器件性能。
n型碳化硅SiC晶片到2020年将以21%的CAGR成长至1.1亿美元
由碳化硅电力设备市场驱动,n型碳化硅基
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GaN SiC
集LED照明解决方案、化合物半导体材料、功率器件和射频于一体的全球著名制造商和行业领先者CREE公司于近日推出一款全碳化硅半桥功率模块 CAS300M17BM2。业界首款全碳化硅1.7kV功率模块的诞生更加确立了CREE公司在碳化硅功率模块技术领域的领导地位。该模块不但能在高频下工作还具有极低的功耗,非常适用于高功率电机驱动开关和并网逆变器等应用。目前世强已获授权代理SiC系列产品。
图:CAS300M17BM2模块外观图
世强代理的CAS300M17BM2 碳化硅功率模块采用行业标准
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CREE SiC
Si MOSFET管因为其输入阻抗高,随着其反向耐压的提高,通态电阻也急剧上升,从而限制了其在高压场合的应用。SiC作为一种宽禁代半导体器件,具有饱和电子漂移速度高、电场击穿强度高、介电常数低和热导率高等特性。世强代理的Wolfspeed的SiC MOSFET管具有阻断电压高、工作频率高且耐高温能力强,同时又具有通态电阻低和开关损耗小等特点,是高频高压场合功率密度提高和效率提高的应用趋势。
SiC与Si性能对比
简单来说,SiC主要在以下3个方面具有明显的优势为:击穿电压强度高(10倍于S
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世强 SiC
根据YoleDeveloppement指出,氮化镓(GaN)元件即将在功率半导体市场快速发展,从而使专业的半导体业者受惠;另一方面,他们也将会发现逐渐面临来自英飞凌(Infineon)/国际整流器(InternationalRectifier;IR)等大型厂商的竞争或并购压力。
Yole估计,2015年GaN在功率半导体应用的全球市场规模约为1千万美元。但从2016-2020年之间,这一市场将以93%的年复合成长率(CAGR)成长,预计在2020年时可望达到3千万美元的产值。
目前销售Ga
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氮化镓 GaN
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