继本月15日就EUV光刻机出口管制发表看法后，荷兰ASML（阿斯麦）CEO温彼得（Peter Wennink）在23日再次表达了自己的意见。他强调的一个重点是，这样做只会加快中国自主研发的速度。虽然温彼得认为知识产权保护力度要保持，但他并不认可切断高端技术出口的做法。“如果你采取出口管制措施将中国市场拒之门外，这将迫使他们争取技术自主权……在15年的时间里，他们自己将能够做出所有的这些东西，而且他们的市场（针对欧洲供应商的市场）将彻底消失。”温彼得在阿斯麦总部所在地——荷兰费尔德霍芬与媒体交流时时作出该表
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ASML 5nm 光刻机
据美媒Politico报道，荷兰光刻机制造商、行业巨头ASML的总裁温宁克日前表示，美国针对中国的芯片出口禁令伤害了欧洲半导体行业，“15年之内，中国将有能力制造所有产品。到那时，欧洲供应商的中国市场将会消失。” 温宁克说，欧盟不应根据美国战略而限制高端技术向中国出口，这样会加速帮助中国实现“科技自主”。 近年来，随着美国对中兴通讯、华为以及众多中国高科技公司的打压，欧洲一些芯片制造关键技术和产品未获得美国许可，无法出口给中国。这种针对中国的“卡脖子”做法也让一些欧洲企业利润下降明显，其中原因是欧洲对
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ASML
近日，中芯国际与ASML达成12亿美元交易购买晶圆生产设备的消息引发关注。针对双方此次合作，有媒体报道称“除了EUV光刻机，中芯国际几乎可以买到其他所有型号的光刻机。”但是这一说法很快被ASML官方澄清，该协议与DUV光刻技术的现有协议相关。 可能很多网友看到这里有点蒙圈，这绕来绕去的到底是玩的什么文字游戏。这里先进行一个小科普，EUV和DUV到底有啥区别呢？EUV也就是“极深紫外线”的意思，而DUV是“深紫外线”的意思，通过字面就知道EUV看上去就比DUV高级，实际上也是如此。 ASML澄清与中
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中芯国际 ASML DUV EUV
如今全球芯片短缺，不仅仅已经严重影销到了科技数码产业，就连汽车产业也深受其害。为了满足2021年的需求激增，目前有国外媒体称台积电一口气向荷兰ASML下达了18台最先进的极紫外光刻机需求，如此之大的需求量可以说是史上的天量，三星英特尔急了。ASML光刻机抢破头 因为目前全球能够提供最先进极紫外光刻机的只有荷兰ASML一家，在刚刚过去的2020年当中，ASML面向全球客户一共才交付了31台极紫外光刻机，也就是说台积电如果一口气吞掉了18台的话，就占尽了全球半导体新工艺产能的半数以上还要多。 而对于正在步
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ASML 5nm 光刻机
荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）1月20日发布了2020年Q4和全年财报，这位世界光刻机霸主去年共出货了31台EUV光刻机，中国大陆由于种种原因没有买到其中任何一台。 有人说阿斯麦是唯一一个能让台积电折腰的公司，这一点也不夸张。阿斯麦所生产的光刻机，是半导体工厂生产芯片的最关键工具。毕竟，没有刀，再好的师傅也雕不出来花。 如果有任何厂商的光刻机设备需要维修，阿斯麦的工程师从登上飞机那一刻，厂商就要付给他们以小时计的美金。 曾经，某上市公司的光刻机出问题后，排了3年队才等到阿斯麦的工程师。结果阿斯麦的
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EUV 光刻机 ASML
拜登上任在即，他会缓解紧张的中美科技局势吗？近期，全球最大光刻机制造商ASML的CEO表示，即使总统换届，两国在包括光刻机在内的半导体领域，仍将出现进一步的对抗。也有人发表看法，发展芯片，开源指令集架构RISC-V可能会让中国芯片自主「弯道超车」？ 离美国新任总统拜登的上任越来越近了。 在过去川普任职期内，中美之间的贸易战让不少科技公司都卷入其中，总部位于荷兰的光刻机制造商ASML也是其中之一。 由于美国政府的压力，其最新价值约2亿美元的光刻机已停止向中国销售。 由于川普的举动常常出其不意而且疯狂
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EUV 光刻机 ASML
今年7月，在中国科学院官网上发布了一则研究进展，中科院苏州所联合国家纳米中心在《纳米快报》（Nano Letters）上发表了题为《超分辨率激光光刻技术制备5纳米间隙电极和阵列》（5 nm Nano gap Electrodes and Arrays by a Super-resolution Laser Lithography）的研究论文，介绍了该团队研发的新型5 纳米超高精度激光光刻加工方法。该论文发表在《纳米快报》（NanoLetters）。图截自官网ACS官网 消息一经发出，外界一片沸腾，一
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中科院 光刻技术 ASML
据TechWeb网站11月30日最新报道，近日荷兰光刻机巨头阿斯麦（ASML）又送来一则好消息，该司已经与比利时半导体研究机构IMEC共同完成了1nm光刻机的设计工作。 据了解，先进制程的光刻机对于曝光设备的分辨率要求更高。与此同时，ASML已经完成了0.55NA曝光设备的基本设计工作。按照阿斯麦的计划，预计相应的曝光设备全线准备好之后，会在2022年实现商业化。 然而，这家荷兰企业的光刻机制造技术却变得重大突破之际，我国芯片制造巨头——中芯国际自阿斯麦订购的EUV光刻机至今却还未到货。据悉，中芯
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14日讯，《科创板日报》记者从ASML获悉，其公布了EUV路线图上的新机型TWINSCANNXE:3600D的最终规格，这是30mJ/cm2的曝光速度达到每小时曝光160片晶圆，提高了18%的生产率，并改进机器匹配套准精度至1.1纳米，并计划于2021年的中期开始发货。
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ASML EUV 光刻机
9月16日，中国科学院院长白春礼在国新办发布会上介绍称，“率先行动”计划第二阶段要把美国“卡脖子”的清单变成科研任务清单进行布局，集中全院力量聚焦国家最关注的重大领域攻关。白春礼称，从2021年到2030年未来的十年是“率先行动”计划第二阶段。对此，首先要进行体制机制改革。他称，目前已经设立了创新研究院、卓越创新中心、大科学中心和特色所四类机构，目的是根据科研性质不同进行分类定位、分类管理、分类评价、分类资源配置。“这个工作还没有完，只是进行了一部分，所以第二阶段我们争取在2025年要把四类机构全部做完，
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台积电在高端制程技术上冲锋陷阵，已经成为光刻机龙头 ASML 在 EUV 机台上的最大采购客户，累计已经购买了 30 台 EUV 设备。日前，ASML 继在韩国成立 EUV 技术培训中心后，也在台积电先进制程的重镇台湾台南，成立 EUV 技术培训中心。一台EUV系统需要50个工程师操作一台造价逾一亿欧元的精密 EUV 系统，重量高达 180&nbs
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日前，中国国际半导体技术大会（CSTIC）在上海开幕，为期19天，本次会议重点是探讨先进制造和封装。其中，光刻机一哥ASML（阿斯麦）的研发副总裁Anthony Yen表示，EUV光刻工具是目前唯一能够处理7nm和更先进工艺的设备，EUV技术已经被广泛认为是突破摩尔定律瓶颈的关键因素之一。Yen援引统计数据显示，截至2019年第四季度，ASML当年共售出53台EUV NXE：3400系列EUV光刻机，使用EUV机器制造的芯片产量已经达到1000万片。他说，EUV已经成为制造7nm、5nm和3nm逻辑集成电
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Intel 台积电 ASML EUV 光刻 摩尔定律
提到荷兰ASML公司，大家都知道他们是全球唯一的EUV光刻机供应商，7nm及以下的工艺生产都要靠他们的设备。不过ASML不只是光刻机厉害，今天他们宣布了另外一个新产品——第一代HMI多光束检测机HMI eScan1000，适用于5nm及更先进工艺，使得产能大涨600%。随着制程工艺不断提升，晶圆的制造也越来越复杂，这也会导致晶圆中的错误更多，HMI eScan1000就是一套基于HMI多光束技术的检测系统，内部也有复杂的光电子系统，能够产生、控制多个电子束，然后根据反射回来的电子束成像来分析晶圆质量，并有
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5nm ASML 产能
据外媒报道，由于担心新型冠状病毒疫情带来的不确定性，三星和台积电的半导体设备供应商ASML宣布撤回2020年第二季度的业绩预期。不过，这家生产极紫外线(EUV)光刻设备的荷兰公司补充说，该公司的设备订单依然强劲，需求也没有变化。ASML首席执行官彼得·温宁克（Peter Wennink）说：“需求前景没有变化，今年我们没有遇到任何推迟或取消交易的情况。尽管当前形势充满挑战，但到目前为止，我们能够继续保持正常业务。”但温宁克补充说：“目前新型冠状病毒疫情将如何影响全球GDP发展、终端市场、我们的制造能力以及
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光刻机 ASML
作为全球唯一能生产EUV光刻机的公司,荷兰ASML公司去年出售了26台EUV光刻机,主要用于台积电、三星的7nm及今年开始量产的5nm工艺,预计今年出货35台EUV光刻机。目前ASML出货的光刻机主要是NXE:3400B及改进型的NXE:3400C,两者基本结构相同,但NXE:3400C采用模块化设计,维护更加便捷,平均维修时间将从48小时缩短到8-10小时,支持7nm、5nm。此外,NXE:3400C的产能也从之前的125WPH(每小时处理晶圆数)提升到了175WPH。不论NXE:3400B还是NXE:
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