ITO靶材向大尺寸高密度方向发展

　　ITO靶材是LCD产业链的重要一环，是基本的配套材料。近年来随着平面显示器行业的蓬勃发展，对ITO靶材的需求也大大增长。

　　ITO靶材供应以日本为主

　　ITO材料是一种n型半导体材料，该种材料包括ITO粉末、靶材、导电浆料及ITO透明导电薄膜。其主要应用分为：平板显示器(FPD)产业，如液晶显示器(LCD)、薄膜晶体管显示器(TFT-LCD)、电激发光显示器(EL)、场发射显示器(FED)、电致有机发光平面显示器(OELD)、等离子显示器(PDP)等;光伏产业，如薄膜太阳能电池;功能性玻璃，如红外线反射玻璃、抗紫外线玻璃如幕墙玻璃、飞机、汽车上的防雾挡风玻璃、光罩和玻璃型磁盘等三大领域。

　　2008年全球ITO靶材年需求量1500吨左右，价格1000美元/公斤左右，市场总量15亿美元左右。

　　目前国内ITO靶材需求量约150吨。随着中国经济的发展和全球产业分工的深化，日本、我国台湾地区、韩国的许多平板显示器制造企业都将他们的制造基地移到中国大陆，未来中国大陆将成为全球最大的液晶显示器制造中心。预计2010国内ITO靶材需求量将超过500吨。

　　ITO靶材的供应，主要的供应商以日本为主，其中日本能源、日本三井矿业公司、日本东曹3家厂商囊括了80%以上的ITO市场。

　　国内主要生产厂家有山东威海蓝狐特种材料开发有限公司、株洲冶炼集团、柳州华锡集团有限责任公司、中色(宁夏)东方集团公司等。国内由于ITO靶材生产工艺的局限性，靶材产品尺寸小，品质不高，产品大多只能用于中、低端市场，国内高端显示器用靶材全部依赖进口。

　　ITO靶材3种生产工艺各具特色

　　ITO靶材的生产工艺可以分为3种：热等静压法(HIP)、热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下。

　　热等静压法

　　ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好，但设备投入高，生产成本高，产品的缺氧率高。

　　热压法

　　ITO靶材的热压制作过程是在石墨或氧化铝制的模具内充填入适当粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的压力单轴向加压，同时以1000℃～1600℃进行烧结。