EEPW
技术应用
外延片是指用外延工艺在衬底表面生长薄膜所生片的单晶硅片。一般外延层厚度为2-20微米,作为衬底的单晶硅片厚度为610微米左右。 外延工艺:外延生长技术发展于20世纪50年代末60年代初,为了制造高频大功率器件,需要减小集电极串联电阻。生长外延层有多种方法,但采用最多的是气相外延工艺,常使用高频感应炉加热,衬底置于包有碳化硅、玻璃态石墨或热分解石墨的高纯石墨加热体上,然后放进石英反应器中,也可采用红外辐照加热。查看更多>>
逼近千亿:DeepSeek上调融资规模
芯片双雄再上法庭,芯片授权战升级
苹果被判赔57亿美元:Taptic Engine与Taction的触觉专利之战
长鑫科技的最大手笔来了,能否改写全球存储格局?
长江存储德国胜诉:一纸禁令背后的权力转移
2026-10-11
2026-10-10 个人电脑 出货量
2026-10-10 美光 罢工危机
2026-10-10 CoPoS FOPLP 玻璃基板 AI链 台积电
2026-10-10 TI I3C通信 I2C通信 信号链 时钟延展 串行通信 转换器 传感器 干扰滤波器
2026-10-10 TI 机架功耗 Token 数据中心 控制热量 服务器散热 HVAC
2026-10-10 ADI IMU 精准惯性测量单元 智慧农业 运动感知
2026-10-10 ADI TEC温控 光通信 激光二极管 温度控制 激光波长
2026-10-10 纳芯微 线性电流传感器 NSM2025 汽车电驱系统 过流检测 BMS
2026-10-10 3L-ANPC 双向变换器 参考设计 英飞凌
外延片 LED外延片