世界上第一台高性能Peltier制冷设备

三星电子与约翰霍普金斯大学应用物理实验室 （APL） 一起展示了下一代Peltier冷却技术的进展。Peltier器件通过利用珀尔帖效应进行冷却，其中向半导体施加电流会导致一侧冷却，而另一侧会升温。由于这种方法不依赖制冷剂，因此它正在成为传统冷却系统的一种有前途的环保替代方案。

通过首次利用新开发的薄膜 Peltier 半导体器件，并通过先进的纳米工程技术进行增强，研究团队成功创造并展示了高性能 Peltier 制冷机。

这种薄膜 Peltier 制冷机的冷却效率超过了传统蒸汽压缩系统的冷却效率，为下一代无制冷剂制冷机的商业化铺平了道路。

与传统的蒸汽压缩技术相比，帕尔贴冷却以更简单的设计提供更快、更精确的温度控制，使其适用于广泛的行业，包括家用电器、半导体、医疗设备、汽车电子和数据中心。

在 Peltier 半导体器件中实现卓越的冷却效率对于高性能 Peltier 冷却技术的商业化至关重要。

三星和 APL 研究团队通过引入新的薄膜半导体材料以及小型化和轻量化设计，将珀尔帖器件的效率提高了近 75%，从而实现了这一目标。

新开发的 Peltier 器件在资源效率和可制造性方面也具有显著优势。该团队证实，创新的制造工艺将所需的帕尔贴材料量大幅减少到典型体积的 1/1,000 左右，同时还简化了生产步骤。这一突破提高了可扩展性并支持大规模生产，有望在成本效益和环境可持续性方面取得重大进步。

世界上第一台采用纳米薄膜技术的高性能帕尔贴制冷机代表着向无制冷剂冷却的飞跃