中国大陆在先进芯片制造领域正逐渐缩小与西方的差距。外媒报导，上海微电子装备（集团）股份有限公司日前公布了一系列制造7纳米以下芯片关键能力的专利，该消息也得到了德国等海外专业媒体的注意，称大陆在芯片领域正在迎头赶上。

德国之声引述包括「芯智讯」在内的网络媒体报导称，大陆国家知识产权局于10日披露了一项名为「极紫外辐射发生装置及光刻设备」的发明专利，内容涉及极紫外辐射（EUV）发生装置及光刻设备，申请者为上海微电子装备（集团）股份有限公司。

报导指，EUV光刻技术是一种先进的芯片制造技术，可以在半导体晶圆上绘制极其精细的电路，从而生产出更小、更强大的芯片。这项技术使用极紫外光（EUV）作为光源，比传统光刻技术能实现更高的精度。拥有EUV光刻技术专利意味着掌握了制造7纳米以下芯片的关键能力。

据相关报导，上海微电子此次披露的专利主要涉及EUV 光源和光刻设备，其中重点的极紫外辐射发生器（光源）主要包括腔体、靶材发生器、雷射发生器、收集镜、电极板、气控零件等关键零件。

该消息也引起了德国科技时政类媒体Telepolis的关注。该媒体近日报导称，中国大陆在芯片领域正在迎头赶上。

报导认为，中国的技术进步几乎势不可挡。中国光刻设备市场99％的份额由荷兰艾司摩尔（AMSL）及日本的尼康和佳能控制。只有艾司摩尔生产7纳米以下芯片的设备。然而，艾司摩尔在为中国大陆客户提供服务方面面临压力，中国是其仅次于台湾的第二大市场。

根据2023年年报，艾司摩尔仅能满足中国大陆订单的50％。据香港《南华早报》报导，自9月6日起，艾司摩尔在中国大陆提供零件、软件更新和系统维护需要获得荷兰许可证。此前，需在美国获得出口许可。

而据陆媒报导，中国大陆的通讯设备公司华为最新推出的Mate XT三折迭屏幕手机采用的麒麟9000处理器基于5纳米工艺制成。这也表明尽管备受国际制裁，陆企仍有能力生产出7纳米以下的先进芯片。

但与此同时，也有分析人士认为，华为和其合作伙伴找到了规避芯片设备出口管制的管道，目前还没有压倒性证据表明华为拥有这些关键技术的完全本土供应链。

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