专栏中心

EEPW首页 > 专栏 > ASML:对华新限制将“包括但不限于先进光刻机”

ASML:对华新限制将“包括但不限于先进光刻机”

发布人:芯片大师哥 时间:2023-07-18 来源:工程师 发布文章

导读:当地时间1月28日,荷兰ASML表示,它了解到几个政府就半导体制造设备出口到中国的新限制达成协议方面取得了进展,包括但不限于先进的光刻工具。


来源:路透社


ASML表示:“据我们了解,政府之间已采取措施达成协议,该协议将专注于先进的芯片制造技术,包括但不限于先进的光刻工具。”


荷兰光刻巨头补充称,这些措施预计不会对2023年的财务预测产生重大影响,因为“在它生效之前,必须详细说明并实施到立法中,这需要时间。”外界质疑其在中国大陆的24亿美元年销售额中至少有一部分可能会受到该决定的影响。


而就在1月25日,ASML首席执行官Peter Wennink告诉路透社,中国芯片制造商已经在调整他们的计划,以应对可能出现的新限制。


图:荷兰首相吕特


而就在ASML做出上述披露的前一日,荷兰首相马克·吕特表示,可能不会对外披露与美国就半导体新出口限制进行谈判的结果。


“这些会谈已经进行了很长时间,我们对此什么都没说,”吕特说。“真的很怀疑,如果有什么东西从他们身上出来,它是否会非常明显。我们必须拭目以待。”


当被问及ASML是否不需要被告知该决定以实施新的限制时,吕特表示政府与该公司的沟通“也是私密的”。吕特政府此前曾表示,它打算与美国就出口管制达成某种协议,但不会简单地采用美国的规则。


图:日本最大半导体设备商TEL


1月27日,彭博社援引知情人士的话说,在当日结束的谈判中,美国已与荷兰和日本达成协议,限制向中国出口一些先进的芯片制造机器。


该协议将把美国2022年10月份通过的一些出口管制扩大到这两个盟国的公司,包括三家最重要的设备公司ASML、Nikon和TEL


Omdia的分析师Akira Minamikawa表示,尽管日本企业可能反对这一限制措施,例如禁止向其设备客户派遣工程师等措施,“这将对他们的业务产生太大影响。”


专栏文章内容及配图由作者撰写发布,仅供工程师学习之用,如有侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 联系我们

关键词: 光刻机

相关推荐

尼康宣布关闭横滨工厂,精密设备业务疲软

ASML 和 SK hynix 在韩国的工厂组装了业界首个“商用”High NA EUV 系统

EDA/PCB 2025-09-04

中国首台商用电子束光刻机揭幕

欧盟晶圆厂设备制造商在欧盟-美国关税协议中获得暂缓——阿斯麦等公司将被免征15%关税

EDA/PCB 2025-07-31

EUV光刻机将成为算力扩张的下一个瓶颈

2026-03-17

三星据报道首次外包光掩模,着眼于新的 EUV 光掩模技术

EDA/PCB 2025-09-18

光刻1

ASML 警告 2026 年增长停滞,地缘政治风险威胁十年发展

EDA/PCB 2025-07-17

中芯国际据报测试国产深紫外(DUV)光刻设备,来自 SiCarrier 子公司, amid AI 芯片推动

EDA/PCB 2025-09-17

第六章光刻工艺(上篇)

阿斯麦CEO:首批High-NA光刻机生产的芯片将在数月内面世

光刻工艺A

美国议员拟禁止向中国头部企业出口 DUV 光刻机与刻蚀设备

EDA/PCB 2026-04-07
更多 培训课堂
更多 焦点
更多 视频

技术专区