新闻中心

EEPW首页 > EDA/PCB > 业界动态 > 国内首条12寸硅光芯片流片平台投用

国内首条12寸硅光芯片流片平台投用

作者: 时间:2025-11-12 来源:财联社 收藏

财联社11月11日电,据“中国光谷”消息,近日,基于12寸40nm CMOS工艺线的全国产化硅光PDK(工艺设计套件)、TDK(测试设计套件)及ADK(封装设计套件)服务平台正式在光谷投用,该平台由国家信息光电子创新中心(NOEIC)建设运营,标志着光谷企业在硅光领域实现又一关键突破。


评论


相关推荐

技术专区

关闭