- 据国外媒体报道，在2月份有报道称台积电的3nm工艺遇到良品率难题，可能影响到AMD、英伟达等部分客户的产品路线图之后，又出现了三星电子3nm工艺的良品率远不及预期的消息。韩国媒体的报道显示，三星电子3nm制程工艺的良品率，才到10%-20%，远不及公司期望的目标，在提升3nm工艺的良品率方面，也陷入了挣扎。另外，三星4nm工艺制造的良率也不尽如人意，仅为30%-35%。三星电子和台积电是目前已顺利量产5nm工艺，并在推进3nm工艺量产事宜的晶圆代工商，与台积电继续采用鳍式场效应晶体管（FinFET）架构不
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三星 3nm 良品率
- 【TechWeb】7月20日消息，据国外媒体报道，在芯片工艺方面，台积电领先于其他厂商，三星电子虽然稍晚，获得的订单也无法与台积电相比，但在工艺的推出时间方面也基本能跟上台积电的节奏，在台积电的5nm工艺已大规模量产的情况下，三星电子也在利用5nm工艺为相关的客户代工芯片。三星电子在去年，就已顺利研发出了基于极紫外光刻的5nm芯片制程工艺，而在上周六的报道中，外媒称三星电子已在利用5nm工艺为高通代工骁龙875G和735G处理器。但从产业链人士透露的消息来看，三星电子的5nm工艺，在良品率方面似乎还不太乐
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