- 日本佳能一直在投资纳米压印（Nano-imprint Lithography，NIL）这种新的芯片制造技术，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”纳米压印半导体制造设备集群。计划将新型芯片制造设备的价格定为阿斯麦极紫外光刻机的十分之一左右，从而在光刻机领域取得进展。佳能首席执行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造设备售价将比阿斯麦（ASML）的极紫外光刻（EUV）设备少一位数，虽然最终的定价目前还没有敲定，但是可以预见将为小型芯片制造商生产先进芯片开辟出一条新的道路。
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佳能 纳米压印 光刻机 ASML 半导体
- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出纳米压印半导体制造设备。对于 2004 年就开始探索纳米压印技术的佳能来说，新设备的推出无疑是向前迈出了一大步。佳能推出的这个设备型号是 FPA-1200NZ2C，目前可以实现最小线宽 14nm 的图案化，相当于生产目前最先进的逻辑半导体所需的 5 纳米节点。佳能表示当天开始接受订单，目前已经向东芝供货。半导体行业可谓是「苦光刻机久已」，纳米压印设备的到来，让期盼已久的半导体迎来一线曙光。那么什么是纳米压印技术？这种技术距离真的能够取代光刻机吗？纳米压印走向台前想要
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纳米压印 EUV 光刻机
- 佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移。自日本佳能(Canon)官网获悉，10月13日，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。（FPA-1200NZ2C 图源:Canon)据悉，除了现有的光刻系统外，佳能还将采用纳米压印(NIL)技术的半导体制造设备推向市场，扩大其半导体制造设备阵容，以满足从最先进的半导体设备到现有设备的广泛需求。佳能官方介绍称，其NIL技术可实现最小线宽14
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佳能 纳米压印 半导体制造
- 光谱，被视为物质的“指纹”，是各类物质与生俱来的“身份证”，而光谱仪就像一双分辨光波的“眼睛”，通过准确测量物质“指纹”，“一眼洞穿”其化学成分和物理特性。 近期，利用光谱原理，中国科学院深圳先进技术研究院集成所副研究员林慧成功研发了一系列面向食品、药品、照明检测的超微型光谱仪，实现了光谱仪由大型科研仪器走向便携应用的转化。 林慧团队从古代活字印刷术中获得灵感，发明了用于曲面的柔性纳米压印技术，改进了关键器件，创新性地将光谱仪与合成生物学大设施、爬壁机器人等新领域结合，碰撞出全新应用场景。 集成
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纳米压印介绍
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