应用材料推出45纳米光掩膜刻蚀技术设备
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应用材料公司资深副总裁,刻蚀、清洁、前道和离子注入产品事业部总经理TomSt.Dennis表示:“TetraIII系统在先进的二元掩膜及相移掩膜应用中的出色表现是帮助客户实现45nm及更小技术节点掩膜产品的关键。随着业界开发出一些潜在的新一代光刻解决方案,相关应用也以前所未有的速度不断涌现。TetraIII系统能够胜任所有光刻应用,在各种不同的光掩膜材料上完成刻蚀工作。”
AppliedCenturaTetraIII系统所具有的超洁净和技术扩展平台使客户可以在最先进的掩膜上实现目前所能达到的最高产出。
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