应用材料推新设备：引领显示屏制造

　　应用材料公司今天发布制造大尺寸、超高分辨率 (UHD) 液晶电视屏和 OLED 显示屏的新技术设备，新技术设备能够满足消费者对显示屏性能、清晰度、色彩和亮度的更高要求。设备进一步巩固了应用材料公司在金属氧化物 (MO) 薄膜技术领域的领导地位，实现制造高分辨率显示屏所需的更小、更快薄膜晶体管 (TFT)。通过精密材料工程和生产革新，这些 PVD 和 PECVD 设备为未来金属氧化物薄膜显示屏的批量生产提供了最优化而具成本效益的解决方案。

　　基于金属氧化物的薄膜晶体管显示技术能支持低功耗、高分辨率的智能手机、平板电脑以及OLED 电视。.未来的超高清(4K)电视也有望采用金属氧化物薄膜晶体管显示技术。应用材料公司 PVD 和 PECVD 设备及工艺所提供的膜质均匀性和微粒控制有助于客户实现这一新型显示屏技术，为大规模生产所需的高良品率提供保障。

　　“我们新型 PVD 和 PECVD 设备使客户能够利用已经验证的技术转向金属氧化物技术，加快显示行业的发展进程，”应用材料公司高级副总裁、全球服务事业部与成长市场部总经理阿里?沙勒普尔 (Ali Salehpour) 说。 “我们与客户紧密合作开发这些解决方案来克服其在均匀性、微粒控制和稳定性上遇到的关键难题，解决运用过程中的主要障碍，尤其是在OLED 产品方面。我们通过将这些解决方案扩展至不同的玻璃基板尺寸，以支持我们客户的各种产品策略，成就大尺寸电视或移动设备高效能显示屏生产的多种技术发展。”

　　应用材料公司的 AKT-PiVot? DT PVD设备(55K 用于 2200mm x 2500mm 玻璃基板，25K 用于 1500mm x 1850mm 玻璃基板)扩展了该公司专有的旋转阴极阵列技术，能为金属氧化物以及金属连线和像素电极提供高度均匀、同质、低瑕疵的成膜。通过 PiVot 形成的、均匀的 IGZO 膜能够制造出对显示屏质量至关重要的高度稳定性的薄膜晶体管，是生产小尺寸和大尺寸 OLED 金属氧化物背板的关键。随着薄膜晶体管越来越小，玻璃基板尺寸越来越大，均匀性和微粒对良品率的影响也大幅增加。与传统的平面靶相比，AKT-PiVot? PVD设备具有的旋转靶自我清洁与等离子摇摆控制机能，实现了产品缺陷率的显著降低与卓越的膜质均匀性。为了有效实现高性价比，独立的双轨道设计以较小的占地面积实现了高产能。通过稳固、无非均匀的 IGZO 薄膜，与均匀低缺陷率的金属连线、像素电极以及新的集成式钝化层 (AlOx)薄膜的结合，实现了前所未有的技术性能和灵活性。

　　应用材料公司的新型 AKT 55KS PECVD 设备为 2200mm x 2500mm 尺寸的玻璃基板带来了领先于市场的精密 PECVD 技术。利用其新型优质的二氧化硅 (SiO2) 工艺，为金属氧化物晶体管沉积电介质界面，最大程度地减少氢气杂质，提高晶体管的长期稳定性并优化显示屏性能。通过持续实现高良品率所需的均匀性和微粒控制，AKT-55KS PECVD 设备为制造优质金属氧化物薄膜晶体管显示屏提供了快速而易于实施的技术方案。