中微公司2月27日发布2025年度业绩快报。

公告显示，中微公司2025年营业收入约123.85亿元，较2024年增加约33.19亿元，同比增长约36.62%；实现归属于母公司所有者的净利润约为21.11亿元，与上年同期相比，增加约4.96亿元，同比增加约30.69%。

中微公司表示，公司业绩增长主要受益于半导体设备市场发展及公司产品竞争优势，主营产品等离子体刻蚀设备作为半导体前道核心设备之一，市场空间广阔，技术壁垒较高。等离子体刻蚀设备在国内外持续获得更多客户的认可，针对先进逻辑和存储器件制造中关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，先进逻辑器件中段关键刻蚀工艺和先进存储器件超高深宽比刻蚀工艺实现量产。

其中刻蚀设备在2025年的销售收入约为98.32亿元，同比增长约35.12%；LPCVD和ALD设备销售约5.06亿元，同比增长约224.23%。

由于市场对开发多种新设备的需求急剧增长，2025年中微公司加大研发力度。公告显示，2025年中微公司研发投入约37.44亿元，较去年增长12.91亿元，同比增长约52.65%，2025年研发投入占该公司营业收入比例约为30.23%，远高于科创板均值。2025年其研发费用为24.75亿元，较去年增长约10.58亿元，同比增长约74.61%。

中微公司近两年新开发出十多种导体和介质薄膜设备，目前已有多款新型设备产品进入市场，其中部分设备已获得重复性订单，LPCVD设备累计出货量突破三百个反应台，其他多个关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进；中微公司EPI设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

此外，中微公司几款MOCVD新产品进入客户端验证阶段，新型八寸碳化硅外延设备、新型红黄光LED应用的设备已付运至国内领先客户开展验证，目前进展顺利。