12月13日消息，光刻机大厂ASML宣布，已与韩国三星电子签署备忘录，将共同投资1万亿韩元在韩国建立研究中心，并将利用下一代极紫外（EUV）光刻机研究先进半导体制程技术。另外，ASML也宣布与SK海力士签署ESG备忘录，双方在包括环境、社会和公司治理项目展开合作。

值得一提的是，上个月初有消息显示，三星电子将在未来五年内从ASML采购50套设备，平均每套单价约为2,000亿韩元（约合人民币10.92亿元），总价值可达10万亿韩元（约合人民币546亿元）。

三星电子于2022年6月底宣布量产了全球首个采用基于全环绕栅极（GAA）的3nm制程技术，使得该公司一直在努力确保能采购更多EUV光刻机，目标是使该公司能在2024年上半年进入第二代3nm制程技术之后，2025年量产2nm制程技术，并在2027年量产1.4nm制程。

正因如此，三星集团董事长李在镕在2022年6月访问了ASML总部，与ASML执行长Peter Bennink讨论了EUV的采购问题，并在同年11月与访问韩国的Peter Bennink进行了进一步会谈。鉴于EUV光刻机从下订到交货的时间至少需要一年的情况下，当时的会面讨论预计将帮助尽快拿到设备。

此外，根据ASML的计划，其将在2023年底前发布首台商用High-NA（0.55 NA ）EUV光刻机，并在2025年量产出货。这使得自2025年开始，客户就能从数值孔径为0.33传统EUV多重图案化，切换到数值孔径为0.55 High-NA EUV单一图案化，降低制程成本，提高产量。

目前，预估High-NA EUV光刻机将会有五大客户，包括英特尔、台积电、三星、SK海力士、美光等。

编辑：芯智讯-林子

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