10月13日消息，台积电在欧洲举办2023 台积电开放创新平台（Open Innovation Platform ，OIP）活动，向合作伙伴展示下一代晶圆代工技术，并表示目前芯片设计人员所需的全新的面向2nm制程工艺的EDA、模拟和验证工具及部分IP都已可供使用，相关生态系统正在形成。

台积电计划在2025下半年量产2nm（N2）制程，由于GAA晶体管构架与台积电目前3nm FinFET完全不同，因此配套的EDA工具和IP都需要进行针对性更新。不过，台积电的OIP平台能使合作伙伴提前开始开发产品。

台积电设计基础设施管理事业部处长Dan Kochpatcharin表示，“针对N2，我们可以提前两年合作，因为Nanosheet是不同的。EDA工具必须准备就绪，而OIP能使我们尽早与合作伙伴合作，台积电有庞大的工程团队，可与EDA、IP等合作伙伴合作。”

目前主要的EDA工具厂商Cadence和新思科技，以及Ansys和Siemens EDA等厂商的许多工具都已经通过了台积电认证，不过IP设计则需要更长时间。

根据台积电公布的信息，非易失性內存（non-volatile memory）、接口IP、chiplet相关IP等模块尚未出现，这成为部分芯片设计的瓶颈，但台积电的合作伙伴都正在积极开发。目前用于设计2nm芯片的工具和生态系统正在形成，但还没有全部到位。

Kochpatcharin指出，开发采用Nanosheet晶体管的IP并不难，但确实需要更多、更长的周期时间，部分IP供应商也仍需要接受培训，当接受培训后，设计上就会变得容易，这就是台积电之所以很早就开始的原因。

目前许多芯片的主要建构模块都已支持N2，但在台积电2nm量产前，许多公司仍有许多事情要做。至于设计IP和开发工具的大公司已在开发2nm芯片，到2025年量产时，他们的产品应该已经准备就绪。随着台积电及合作伙伴的2nm准备工作进展顺利，其他芯片设计公司也可以准备设计规划。

编辑：芯智讯-林子

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