#5月财经新势力#

据路透社报道，美光科技本周三表示，计划在日本政府的支持下，未来几年在极紫外线(EUV)光刻技术领域投资高达5,000亿日元(37亿美元)。

彭博社周三援引知情人士的话报道称，美光(Micron)准备从日本政府获得约2000亿日元(14.8亿美元)的财政补贴，以帮助其在日本生产下一代DRAM存储芯片。

最新的极紫外光刻(EUV)光刻机将用于制造10纳米技术节点DRAM芯片。美光表示，该公司将成为第一家将EUV技术引入日本生产的半导体公司，预计从2025年起，将在中国台湾和日本工厂的10纳米技术节点DRAM生产上使用EUV光刻机。

去年，这家美国存储芯片制造商在其广岛工厂开始大规模量产新的高容量低功耗动态随机存取存储器(DRAM)芯片。

日本一直在努力重振其芯片行业，其全球市场份额已从上世纪80年代末的50%左右降至10%左右，而美国也越来越多地敦促其盟友共同努力，以对抗中国的芯片先进技术开发。

在G7峰会召开之前，日本首相也表态欢迎全球芯片制造商的更多投资。日本首相岸田文雄(Fumio Kishida)周四在七国集团(G7)峰会前与全球企业高管会面后表示，他欢迎并期待全球芯片制造商在日本进行更多投资，日本正努力重振其芯片行业。

在周五开始的七国集团领导人年度会议上，中国和半导体产业链将成为重要议题，美国越来越多地敦促其盟国对抗这个中国的芯片和先进技术发展。

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