一、前言
我国大陆
PCB总产值将从2005年的93.96亿美元上升到2010年的179亿美元,比2005年增加90%,年增长速度均超过两位数。伴随PCB产业的快速发展,印制电路板专用化学品行业也必将有广阔的市场空间和有利的市场前景。目前,尚未见有关于化学镀铜每年市场需求量的具体统计数据,但以PCB行业的发展趋势以及国家环保政策来看,非甲醛环保多功能化学镀铜产品的市场前景非常广阔,具有非常大的市场容量。
我们承担了国家这一科技攻关课题,并在非甲醛沉铜这一领域进行了大量的研究,也发表了多篇学术论文。现在我们将介绍如何用DOE的实验方法来研究这项技术,并用Minitab来详细分析其结果,最终得到影响非甲醛沉铜技术的关键因素。
二、实验内容www.pcbchaoban.net
2.1 实验目的
由于影响非甲醛沉铜的因素有多个,但常见的有铜离子的浓度、还原剂的浓度、络合剂的浓度、稳定剂的浓度和pH值等。我们通过DOE实验设计来做出一系列的实验,然后用Minitab来分析实验的结果,最后得出影响非甲醛沉铜技术的关键因素。
2.2 实验试剂和实验条件
实验所用的试剂是我们公司自行研制的产品和一些常用的试剂,具体试剂和实验条件见表1。实验工艺路线:除油→二级水洗→微蚀→二级水洗→预浸→活化→二级水洗→化铜→二级水洗
表1、试剂和工艺控制条件:
专栏文章内容及配图由作者撰写发布,仅供工程师学习之用,如有侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 联系我们
相关推荐
INA114重负载输出缓冲电路
INA114构成的差动电压-电流变换电路
北京建设国内最大液晶基地 首期投资12亿美元
功率稳定可调LD驱动电路的设计
大嘴业话:Intel 部门调整 揭开“英阿大战”序幕
如何走出DRAM短缺困境?
右腿驱动的ECG放大器(INA114)
大嘴业话:日本半导体产业沉浮录
Vicor更高密度 - 电源在更小的空间容纳更多功能
铼宝预期未来OLED面板手机将会以倍数快速增长
光纤CAN总线自愈环网的研究
Microchip PIC24F Android 附件开发平台
INA114构成的远距离负载和地检测电路
Robei FPGA仿真工具视频教程
具有冷端补偿的热电偶放大电路(INA114)
公共闪存接口CFI在Flash Memory程序设计中的应用
高速电路设计和信号完整性分析
格芯季度业绩亮眼、业绩指引超预期,股价大涨 16%
SPEC Cloud IaaS成绩公布,国产C86处理器性能破纪录
集成电路孕育8000亿元商机
全球芯片制造业龙头企业台积电落户松江科技园
荷兰法院下令对闻泰科技的Nexperia进行调查
上海集成电路产业投资基金三期规模激增11倍,达60亿元,助力中国芯片自主进程加速
台积电再创单月营收历史新高纪录
Windows 11 26H1:微软为Arm架构电脑打造的专属版本
Day0首发!海光DCU高效支持智谱GLM-5大模型
ZAM首度亮相:SAIMEMORY在英特尔日本活动上发布新型内存,专为解决散热难题而生
高性能超声电机驱动及控制电路的研制
达尼森推出DN1000ID电流传感器系列新产品
京东方澄清称某些媒体预测TFT-LCD业务有误