- 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus１”服务（以下简称“Lithography Plus”），该系统汇聚佳能在半导体制造领域超过50年的技术积淀，以包括曝光工艺在内的海量半导体制造数据为支持，在提升设备维护运转率的同时，能够实现半导体制造工艺的优化。 佳能陆续推出了具有高处理性能的KrF光刻机和支持多种设备的i线光刻机等一系列产品，多年来一直积极地为购置佳能光刻机的客户提供技术支持。“Lithography Plus”通过综合运用技术经验与数据积累，在实
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佳能 半导体光刻机 Lithography Plus
- 电子束光刻系统的知名厂商Vistec Lithography公司近日宣布他们与中国武汉华中科技大学光电工程学院签署了战略合作伙伴协议。武汉华中科技大学是大陆国家级重点院校之一，而 Vistec Lithography则是电子束光刻设备的领先厂商，按协议规定，两家将在纳米光刻技术研究和教学领域开展合作。
这次合作的核心是Vistec公司提供给华中科技大学的EBPG5000pES电子束光刻系统，装备这套系统之后，华中科技大学在教学，科研以及对外合作方面的实力将如虎添翼。华中科技大学称：“
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Vistec-Lithography 光刻 掩膜
- Maskless Lithography公司今天首次公开推出全新的可提高印制电路板(PCB) 生产门槛的直写数字成像技术。这种MLI-2027直写光刻系统首次在业内同时实现高精度、高生产效率和高成品率，並采用标准的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蚀剂。Maskless公司今天还宣布Sanmina-SCI公司通过在洛杉矶的工厂中对Maskless MLI-2027设备进行测试、验证和认证后，购买了该公司的首台产品。
“这台设备的售出标志着我们五年的研发工
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Maskless-Lithography PCB 光刻系统 MLI-2027
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