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佳能发售半导体光刻机解决方案平台“Lithography Plus”

• 佳能将于2022年9月5日起发售解决方案平台“Lithography Plus１”服务（以下简称“Lithography Plus”），该系统汇聚佳能在半导体制造领域超过50年的技术积淀，以包括曝光工艺在内的海量半导体制造数据为支持，在提升设备维护运转率的同时，能够实现半导体制造工艺的优化。 佳能陆续推出了具有高处理性能的KrF光刻机和支持多种设备的i线光刻机等一系列产品，多年来一直积极地为购置佳能光刻机的客户提供技术支持。“Lithography Plus”通过综合运用技术经验与数据积累，在实
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