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SEZ部署了FEOL清洗产品特性全新的ESANTI 单晶圆湿式平台

  •    Esanti 标志着SEZ面向FEOL战略发展蓝图又迈出了至关重要的一步 SEZ(瑟思)集团 (瑞士股票交易市场SWX代码:SEZN)于宣布了公司面向前段工艺过程(FEOL)中清洗和光阻剥离工艺的Esanti平台。极其灵活的Esanti平台充分利用了SEZ集团久经考验的专业技术单晶圆湿式处理技术,旨在满足45纳米及其更低尺寸的芯片制造中前段工艺过程的清洗衍变需求。它构筑于公司的核心旋转处理器技术之上,增加了新的功
  • 关键字: ESANTI  FEOL  SEZ  单晶圆湿式平台  工业控制  清洗产品  其他IC  制程  工业控制  
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