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掩模版:产业链合作图共赢 打破垄断盼扶持

作者:冯晓伟时间:2009-07-02来源:中国电子报收藏

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/95868.htm

  作为转移微细图形的工具,(薄膜晶体管液晶显示器)制造过程中必不可少的材料,对TFT产业至关重要。由于当前市场主要被国外企业所垄断,我国要发展TFT产业,的国产化显得尤为重要。

  掩模版是产业链重要环节

  和集成电路的生产一样,在制造过程中也需要利用光刻工艺把沉积在基板上的薄膜(金属、介质或透明导电玻璃等)制作成一定的图形,这种图形转移的母版就是掩模版。对于一种产品而言,其生产过程中有多少次光刻就需要多少张不同图形的掩模版。

  与集成电路的区别在于,除了在阵列基板上制作晶体管时需要利用光刻工艺之外,彩色滤光片的制作同样会用到掩模版。湖南普照信息材料有限公司总经理王佳悦在接受《中国电子报》记者采访时表示,在TFT-LCD制造过程中,光刻掩模版的作用相当于照相的“底片”,面板厂商通过曝光的方式把掩模版上的图形批量复制到最终的产品上,实现微细图形的转移。因此,作为母版的掩模版的质量,在很大程度上决定了TFT-LCD最终产品的质量,任何一个不起眼的瑕疵都有可能给面板厂商带来巨大的损失。正因为如此,掩模版在TFT-LCD生产中具有承上启下的关键作用,是产业链中不可或缺的重要环节。“作为掩模版的基材,掩模基版(匀胶铬版)的作用则相当于照相的空白‘胶卷’,经过光刻工艺将微细电子图形刻蚀于其上,制作成‘底片’———掩模版。”王佳悦以形象的比喻对记者介绍了掩模基版的作用。他表示,作为光掩模加工过程中不可替代的关键基础材料,匀胶铬版的质量又成为能够左右掩模版质量的关键因素,换言之,匀胶铬版虽只是一种上游配套材料,但其质量对于终端应用产品而言也是至关重要的。

  国产化是必然选择

  尽管掩模版及其基材在产业链中的重要性早已得到业界的公认,但对于有志于打造完整的平板显示产业链的中国大陆而言,掩模版及其基材还是一个薄弱环节。公司大中华区及美国区经理戴晓兵告诉《中国电子报》记者,目前,全球每年近6亿美元的显示器(包括电视、电脑显示屏、手机等)掩模版市场为日韩厂商所掌控,其中日本厂商占绝对多数,达到68%,其次为韩国厂商,在30%以上,我国台湾地区厂商只占0.5%的份额,而中国大陆的份额只有0.1%。日本和韩国公司对中国市场极为关注,有两家公司已在中国大陆购置土地,只待时机成熟,即可在中国大陆建厂,抢占商机。

  在掩模版基材方面,中国同样缺乏竞争力。由于匀胶铬版的生产工艺流程涉及精细抛光、清洗、镀膜、匀胶等多个不同高技术领域,且对净化要求极为苛刻(比如生产大尺寸石英掩模基版对镀膜装片室的净化要求高达0.1μm1级),因此长期以来其生产技术一直被掌控在美国、日本及韩国等少数几个厂家手中,加之随着下游应用产品不断升级换代,对掩模版在尺寸、精度等方面也提出了更高要求,一直以来国内厂家很难打破这一技术壁垒。从我国TFT-LCD产业的发展趋势和当前掩模版环节的国际竞争态势来看,掩模版及其基材的国产化已是迫在眉睫。


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关键词: Micronic TFT-LCD 掩模版

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