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能同时测量纳米器件机械电子和电气特性的测试系统

作者:时间:2012-07-16来源:网络收藏

研究纳米级材料的通常要综合使用探测和显微技术对感兴趣的点进行确定性。但是,必须考虑的一个额外因素是施加的探针压力对测试结果的影响,因为很多材料具有压力相关性,压力会引起材料的电气特征发生巨大的变化。现在,一种新的技术能够将纳米材料的电气和机械特性表示为施加探针压力的函数,为人们揭示之前无法看到的纳米现象。

本文引用地址:http://www.eepw.com.cn/article/193597.htm

美国Hysitron公司基于吉时利(Keithley)仪器公司双通道数字源表设计的纳米级电接触电阻工具nanoECR能够在高度受控的负载或置换接触条件下实现现场的电气和机械特性测量。Hysitron公司工程师David Vodnick表示,该技术能够提供多种测量的时基相关性,包括压力、置换、电流和电压,大大增加我们能够从传统纳米级探针测量中所获得的信息量。这种测量是从各类纳米级材料和器件中提取多种参数的基础。

新测量方法

纳米技术应用的多样性为耦合机械测量与电气测量,同时又实现高精度、可重复性和探针定位,提出了一系列的特殊挑战。此外,纳米触点独特的几何尺寸也使我们面临着很多技术难题。

Hysitron公司工程师Ryan Major 介绍说,该系统集成了Hysitron TriboIndenter纳米机械测试仪和吉时利2602型双通道数字源表,此外还包括一个导电样本台、一个获专利授权的电容(nanoECR)转换器和一个导电硬度探针(图1)。该转换器能够通过电流,无需给探针连接外部导线,从而最大限度地提高了测试精度和可重复性。这种“穿针”式测量结构确保了安全接触,有助于减少可能出错的来源。

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“该系统还包括一个完整集成的数据采集系统,支持压力-位移和电流-电压测量之间的实时关联。用户可以在这一采集系统上连接辅助测试仪,进行实时测量并提取其他所需的参数”,David Vodnick补充道,通过其用户界面可以在很宽的负载和位移控制条件下方便地配置所有的测试变量。这一特点得益于数字源表的板载测试脚本处理器,它能够自动运行测试序列,为其他硬件元件提供同步,尽可能地减少系统各个部分之间的时序/控制问题。

系统测试流程与实例

Ryan Major表示,在该系统的测试过程中,探针被推进到样本表面,同时连续监测位移。根据压力和位移数据可以直接计算出样本的硬度和弹性模量。对于电气参数,吉时利数字源表向导电台加载一个偏压,待测器件(DUT)与导电台实现电气耦合。当导电硬度探针刺入材料,系统就可以连续测量电流、电压、压力和位移。压力驱动/位移检测功能通过静电驱动的转换器实现,具有极低的测量噪声和极高的灵敏度。转换器/探针组合安装在压电定位系统上,实现了样本拓扑结构的扫描探针显微(SPM)成像和非常精确的测试定位。在典型测量过程中,数字源表的一个通道用于实现源和测量操作,另一个通道用作电流到电压放大器,将电流数据传输到控制计算机。控制软件极其灵活,允许用户指定并测量源电流和电压的幅值,对预定义的压力或位移点进行I-V扫描。用户通过nanoECR软件界面控制所有的数字源表功能,无需手动修改仪表本身上的参数。凭借该软件的灵活性和自动化的测试例程,用户无需手动操作,能够测试最具挑战性的样本。测试时间高度取决于用户定义的变量,但是普通的测试序列耗时只有大约1分钟。

David Vodnick举例说,硅是一种很好的材料实例。在探针加载/撤除过程中随着探针压力的增大/减小,处于移动探针下的纳米变形区内会出现一系列相位变换。在加载探针的过程中,Si-I(菱形立方晶体结构)在大约11~12GPa的压力下将转变为Si-II(金属β-Sn)。在撤除探针时随着探针/样本接触压力的减小,将会进一步出现从Si-II到Si-III/XII的转变。探针加载/撤除的速度也会影响材料的。例如,在硅表面从最大负荷压力下快速撤除探针将会形成α-Si,表现出完全不同的电气特征。这类测量对于诸如硅基MEMS和NEMS器件的研究是非常关键的。在这类器件中,对小结构施加的小压力会转变成大压力,引起材料内部微结构的变化,进而决定材料的电气和机械特性。

总结

成功的开发和制备纳米级材料和器件在很大程度上取决于能否定量地评测和控制它们的电气和机械特性。nanoECR系统的独特方案提供了一种直接、方便而定量的技术,使研究人员能够测出通过传统方法不可能测出的材料特性/行为。除了硅之外,这种研究工具还能够用于研究金属玻璃、压电薄膜、有机LED、太阳电池和LCD中的ITO薄膜,以及各种纳米固体材料,使人们能够洞察到薄膜断面、错位成核、变形瞬态、接触电阻、老化、二极管行为、隧道效应、压电响应等微观现象。

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