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技术应用
EEPW
晶圆视觉检测系统
晶圆包含多个层,而每一层都要执行一个复杂且精确的流程:沉积材料、涂抗蚀剂、光刻、蚀刻、离子注入,最后除去抗蚀剂。但在涂另一层前,必须先检测新蚀刻和注入的层是否有缺陷。因为晶圆层很可能会有划痕、旋转缺陷、曝光问题、颗粒污染、热点、晶圆边缘缺陷,以及影响性能的各种其他缺陷。
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