专栏中心

EEPW首页 > 专栏 > 立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量

立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量

发布人:立仪科技 时间:2024-08-09 来源:工程师 发布文章
01|检测需求:金属隔膜重复性测量
立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量
02|检测方式
为了保证精度,首先先用千分尺进行测量,得出相应的厚度数据,在选择合适的侧头,根据结果,我们现在立仪科技H4UO控制器搭配D27A20侧头
03|千分尺测量结果
经过测量可以厚度是84微米
立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量
04|光谱共焦测量结果
经过测量可以厚度83.417μm
立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量
05|60秒内重复精度展示(部分)
60秒内重复精度展示(部分)
立仪科技光谱共焦应用之金属隔膜静态重复性测量
06|光谱共焦侧头
D27A20侧头相关参数


专栏文章内容及配图由作者撰写发布,仅供工程师学习之用,如有侵权或者其他违规问题,请联系本站处理。 联系我们

关键词: 光谱共焦位移传感器
更多 培训课堂
更多 焦点
更多 视频

技术专区