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英特尔Xe2独显将采用台积电4nm工艺

发布人:芯智讯 时间:2024-07-31 来源:工程师 发布文章

7月8日消息,据wccftech援引DigiTimes的报告报道称,英特尔将在其Arc Battlemage“Xe2-HPG”独立GPU上采用台积电的4nm工艺节点,虽然依然是32个核心,但升级为了第二代核心,相对于上一代采用台积电6mm的Arc Alchemist来说,将带来明显的提升。

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据介绍,英特尔用于 Arc Battlemage 独立 GPU 的 Xe2 架构将比现有的 Arc Alchemist Xe1 GPU 进行了许多改进,以及各种新功能的添加。虽然该系列不仅是英特尔最高端的独立 GPU 产品,但确实带来了很大的提升。

以下是 Battlemage “Xe2” 独立 GPU 的一些传闻功能:Alchemist比性能提升高达50%;采用新一代内存子系统和压缩技术;改进的光线跟踪体验;微体系结构改进;采用下一代基于ML的渲染技术;最新DeepLink功能;出色的游戏性能。

并且,随着台积电4nm工艺的使用,英特尔Arc Battlemage“Xe2”独立GPU阵容的性能确实会被证明是颠覆性的。根据台积电的数据,其4nm节点的性能比5nm提高了11%。因此,带来的性能提升将远高于6nm。

目前,有传闻显示,英特尔将会在2024年推出两款基于Arc Battlemage的GPU,代号为BMG-21和BMG-31。

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同样,英特尔的第二代Arc集成GPU也将会升级为新的基于台积电4nm的Arc Battlemage Xe2-LPG架构,将会被英特尔Lunar Lake/Arrow Lake的第二代酷睿Ultra 200系列处理器首发搭载。

编辑:芯智讯-浪客剑


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关键词: 台积电

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