台积电前副总裁林本坚表示，美国不可能完全阻止中国改进芯片技术，试图限制中国的进步，这是徒劳的。

林本坚本周接受采访时表示，美国应该专注于保持其芯片设计领先地位，而不是对抗中国的整体国家战略。

林本坚在业界备受推崇，因为他是第一个提出浸没式微影曝光技术的人，这是ASML核心产品所依赖的技术。林本坚说，除了努力达到5nm里程碑之外，中国可能还会尝试新材料或先进芯片封装，以制造更强大的半导体。

林本坚表示，中国可以使用现有的旧机器制造更复杂的芯片。中芯应该能够利用已经营运的ASML曝光机推进到下一代5nm制程。

林本坚补充说：「美国真正应该做的是专注于保持其芯片设计领先地位，而不是试图限制中国的进步，这是徒劳的，因为中国正在采取举国战略来发展芯片产业」。

来源：芯榜

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