9月4日消息，据中国台湾媒体报道，中国台湾美光董事长卢东晖近日接受采访时表示，美光有多达 65% 的 DRAM 产品在中国台湾生产，其中台日团队一起研发新一代的 1-gamma 制程，是美光第 1 代采用极紫外光（EUV）的制程技术，将在 2025 年上半年先在台中厂量产。

卢东晖表示，这一轮半导体景气修正有很多“黑天鹅”事件一起发生，确实很严重，包括疫情和俄乌冲突，但好的企业就是在碰到危境时能够沉着应对。美光这次领先示警半导体景气要开始修正，并提前预做准备，如今终端客户库存不断下降，市场将要探底，产能利用率见底回升；反观韩国三星（Samsung）还要延长减产行动，他认为美光比起其他竞争者有更多优势。

卢东晖说，虽然目前尚未看到整个半导体产业景气恢复，美光产能还未满载，不过，DDR5需求越来越好，高带宽内存（HBM）需求也慢慢变好。美光领先的HBM3和DDR5产品，在电竞及生成式人工智能（AI）应用市场颇受欢迎，年度营运计划正往好的方向调整。

他强调，中国台湾和日本是美光非常重要的制造中心，美光有多达65%的DRAM产品在台湾生产；继日本厂于去年10月开始量产1-beta制程技术后，中国台湾现在也将开始量产1-beta制程。

相较上一代的1-alpha制程，美光最新的1-beta制程功耗降低约15%，位元密度提升超过35%，每颗晶粒容量可达16Gb，卢东晖看好1-beta制程与DDR5组合的产品性能。

卢东晖进一步指出，中国台湾与日本团队一起研发新一代的1-gamma制程，是美光第一代采用极紫外光（EUV）的制程技术，进度还不错，计划在2025年上半年量产。美光现在只有在台中有EUV的制造工厂，1-gamma制程势必会先在台中厂量产，日本厂未来也会导入EUV设备。

不过，EUV设备不可能只用一代，卢东晖表示，1-gamma之后的1-delta等几代制程技术还会延续採用EUV。至于DRAM制程会微缩到何时，他认为目前没有人会有答案。

卢东晖回想他在2000年加入英特尔（Intel）时，有人说65nm之后逻辑电路就到尽头，不解他为何加入“夕阳工业”，如今台积电已量产3nm制程。

卢东晖说，“不能低估人类的创新能力”，目前看得到还有一些空间，DRAM以后也可能转到3D DRAM，美光还是可以继续往前发展。

编辑：芯智讯-林子

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