真空机组在等离子清洗中的工作原理

等离子体是气体分子在真空、放电等特殊场合下产生的物质。等离子清洗/刻蚀产生等离子体的装置是在密封容器中设置两个电极形成电磁场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体越来越稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也越来越长，受磁场作用，发生碰撞而形成等离子体，同时会发生辉光。等离子体在电磁场内空间运动，并轰击被处理物体表面，从而达到表面处理、清洗和刻蚀的效果。

真空机组在等离子清洗中的技术优势

环保性：等离子体作用过程是固相干式反应，不消耗水资源，无需添加化学药剂。

广适性：不分处理对象的基材类型，均可进行处理，如金属、半导体、氧化物和大多数高分子材料。

温度低：接近常温，特别适于高分子材料，比电晕和火焰方法有较长保存时间和较高表面张力。

功能强：仅涉及材料浅表面（100-1000A），可在保持材料自身特性的同时，赋予其一种或多种新的功能。

低成本：装置简单，易操作维护，可连续运行，清洗成本大大低于湿法清洗。

工艺可控：所有参数可由电脑设置和数据记录，进行质量控制。

真空机组在等离子清洗中的广泛应用

1.     大幅提高表面的润湿性能，形成活性的表面

2.     去除灰尘和油污，精细清洗和去静电

3.     通过表面涂层处理提供功能性的表面

4.     提高表面的附着能力

5.     提高表面粘接的可靠性和持久性

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