- 9 月，佳能推出了这项技术的第一个商业版本，有朝一日可能会颠覆最先进的硅芯片的制造。它被称为纳米压印光刻 （NIL），能够对小至 14 纳米的电路特征进行图案化，使逻辑芯片能够与目前正在量产的 Intel、AMD 和 Nvidia 处理器相媲美。NIL 系统提供的优势可能会挑战价值 1.5 亿美元的机器，这些机器在当今先进的芯片制造中占据主导地位，即极紫外 （EUV） 光刻扫描仪。如果佳能是正确的，其机器最终将以极低的成本提供 EUV 质量的芯片。该公司的方法与 EUV 系统完全不同，后者完全由总部位于荷
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纳米压印光刻技术 EUV 佳能 新芯片制造系统
- 加州Nanolithosolutions公司日前获得了惠普实验室授权的一项纳米压印光刻技术，该技术可用于生产线宽只有15纳米的电路板原型。
对此，公司首席执行官Bo Pi称：“利用惠普的该项技术，我们可以从事生物芯片、光子芯片，以及相关应用的研究。”
利用惠普的新技术，Nanolithosolutions已经开发出一套工具。该款工具包含一个模块和掩模对准器，可用于创建基片上的晶体管模式。
据悉，该款工具简单易用，成本低廉，可以将普通的掩模对准器变成高分辨率的纳米压印光刻机。
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纳米压印光刻技术 其他IC 制程
纳米压印光刻技术介绍
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