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DUV曝光机光阻剂力拼岛内自给 核心材料明年供台积电、联电

• 中国台湾自研重点放在半导体关键材料自主化，9家厂商年底将进行终端产线验证。 最快明年深紫外光（DUV）曝光机的光阻剂核心材料，可打入台积电、联电等代工大厂产线中。微影制程是在晶圆上制作电路图案，随着精细度有DUV、EUV（极紫外光）差别。 光阻剂是一种光敏感材料，由树脂、光敏感剂、溶剂和添加剂等组成，乃微影不可或缺重要材料。 至于曝光机的光罩部份，岛内像是家登都有生产，比例已不低。但过去晶圆代工制程曾发生过光阻剂大缺货，为了把关键材料掌握在自己手中，岛内推动两期半导体先进制程与封装材料研发。 第一期202
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