中国 上海，2025年8月28日——全球领先的智能传感和发射器解决方案供应商艾迈斯欧司朗（SIX：AMS）今日宣布，其全新UV-C LED在辐射灭菌领域取得重大技术突破，并获得评估认可。 UV-C辐射消毒越来越重要，例如在医疗领域。艾迈斯欧司朗已在这一领域达到重要的峰值（图片：艾迈斯欧司朗） 采用UV-C辐射消灭细菌，如光照消毒，正日益成为全球关注的核心技术，其可广泛应用于医院、办公室、厨房和浴室等各种场景，甚至可实现用UV-C辐射对自来水进行高效消毒。艾迈斯欧司朗全新的U
关键字：
艾迈斯欧司朗
UV-C LED
无汞消毒
● 卓越的光输出功率与电光转化效率（WPE）：典型值为115mW，效率达5.3％；● 极致杀菌效能：峰值发射波长265nm；● 紧凑耐用设计：卓越的R70B50寿命，超过20,000小时。SU CULFP1 UV-C LED应用图片（图片：艾迈斯欧司朗） 全球领先的光学解决方案供应商艾迈斯欧司朗近日宣布，正式推出全新OSLON® UV 3535。这款创新型UV-C LED旨在满足市场对无汞、高效UV-C消毒及治疗解
关键字：
艾迈斯欧司朗
UV-C LED
消毒
UV-C
近年来，随着科技的日新月异，LED领域也发展迅速。作为一种新型LED，UV LED凭借其众多优秀特性而备受瞩目。本文将介绍UV LED的主要性能、背后原理以及在空净消杀相关领域的应用。一、走进UV LED紫外线（Ultra Violet）是指太阳光线的可视光线中（赤橙黄绿青蓝紫）紫色以外、肉眼看不见的光线；是电磁波谱中，波长从10nm到400nm辐射的总称，缩写为UV LED。根据光谱，UV LED可用多种方法进行分类。其中，按太阳光的ISO分类标准ISO-DIS-21348分类法可分为：UVA(400~
关键字：
UV LED
空净消杀
世辉
● 全新设计减少光学损耗，优化辐射特性，实现出色的电光转换效率；● 采用新型开放式外壳设计，集成反射器，无需盖玻片和透镜；● 采用业界标准的3535表面贴装，尺寸紧凑，易于系统设计集成；● 275nm典型波长适用于工业与消费应用中的表面、空气和水处理。全球领先的光学解决方案供应商艾迈斯欧司朗近日宣布，推出OSLON® UV 3535系列中功率UV-C LED，使用寿命更长、输出功率更大且系统集成更容易，进一步满
关键字：
艾迈斯欧司朗
OSLON UV
UV-C LED
· 艾迈斯欧司朗的AS7331开创CMOS传感器全新设计组合，为UV-A、UV-B和UV-C提供独立的传感器通道；· AS7331采用抗辐射表贴封装，尺寸小巧，制造商能够在成本敏感的家用产品中实现紫外线监测；· AS7331让制造商可以将UV-C光源的辐射精确限制在所需剂量内，从而
关键字：
艾迈斯欧司朗
CMOS传感器
UV-A/B/C辐射监测
· 艾迈斯欧司朗该款新型OSLON® UV家族成员具有市场领先的电光转换效率，据内部测试，在杀菌效率最高的265纳米波长时，平均转换效率为5.7%；· 单芯片源达100毫瓦的超强光输出，以及紧凑的封装设计，为任何需要UV-C辐射的应用提供更丰富选择；· OSLON® UV 6060扩展了从消费应用（如表面消杀）到工业
关键字：
艾迈斯欧司朗
UV-C LED
杀菌
受益于先进工艺的技术迭代和众多下游领域需求的强劲驱动力，全球EDA市场规模呈现稳定上升趋势。据国际半导体产业协会（SEMI）统计数据，2020年全球EDA市场规模为114.67亿美元，同比增长11.63%。EDA行业占整个集成电路行业市场规模的比例虽然较小，但其作为撬动整个集成电路行业的杠杆，支撑并影响着数千亿美元的集成电路行业发展。国内市场方面，根据半导体行业协会统计数据，2020年国内EDA市场规模为93.1亿元，同比增长27.7%。2021年以来，国内EDA产业更是迎来高速发展，多家EDA企业发起I
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
1 EDA 是芯片基础，国内处于“再追赶”阶段EDA 是集成电路领域的上游基础工具电子设计自动化（EDA）是指利用计算机软件完成大规模集成电路的设计、仿真、验证等流程的设 计方式。芯片的制造流程可分为主产业链和支撑产业链：主产业链包括芯片设计、制造和封测；支撑产业链包括 IP、EDA、装备和材料等。EDA 软件集成了数学、图形学、微电子学、材料学及人工智能等多领域技术，是集成电路产业的战略基础支柱之一。根据 EDA 工具使用阶段可以分为集成电路制造类 EDA 工具和集成电路设计类 EDA 工具两个主要大
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
近日，国家发展和改革委员会公布了纳入新序列管理的国家工程研究中心名单，以华大九天作为依托单位的EDA国家工程研究中心（原大规模集成电路CAD工程研究中心）顺利通过了优化整合评价，正式纳入新序列管理，成为全国EDA领域唯一一家国家级工程研究中心。 国家工程研究中心是指国家发展改革委员会根据建设现代化经济体系的重大战略需求，以服务国家重大战略任务和重点工程实施为目标，组织具有较强研究开发和综合实力的企业、科研单位、高等院校等建设的研究开发实体，是国家创新体系
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
概伦电子(688206.SH)4月6日在投资者互动平台表示，国内半导体客户接受并认可中国EDA厂商的产品需要一定的过程和时间。随着近年来国际贸易摩擦影响，特别是2020年行业发生的一系列相关事件影响下，业界对我国EDA行业发展的急迫性和必要性的认知程度显著提高。同时，公司拥有已经国际领先客户验证的EDA关键核心技术，在器件建模和电路仿真两大集成电路制造和设计的关键环节掌握了具备国际市场竞争力、自主可控的EDA核心技术，能够支持 7nm/5nm/3nm 等先进工艺节点，已被国际主流市场接纳，在国内市场的竞
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
(一) 主要业务、主要产品或服务情况 1. 主营业务情况 公司的主营业务为向客户提供被全球领先集成电路设计和制造企业长期广泛验证和使用的EDA产品及解决方案，主要产品及服务包括制造类EDA工具、设计类EDA工具、半导体器件特性测试仪器和半导体工程服务等。 2. 主要产品或服务情况 （1）公司主要产品及服务布局 围绕DTCO方法学，公司在器件建模和电路仿真验证两大集成电路制造和设计的关键环节进行重点突破，自主研发了相关EDA核心技术，可有效支撑7nm/5nm/3n
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
自从《商业管制清单》在大洋彼岸落地以来，诸多中国企业可谓是承受了近些年来最严重的一次打压，在半导体领域，这种情况尤为严重。当然，在经济全球化的大背景下，这份“黑名单”破坏的不仅是国与国之间的关系，也让一些全球化巨头受到了不小的损失。对于它们而言，无法和大客户交易只是一方面，来自美国监管部门的审视同样让人头痛。据彭博社报道，近日美国EDA软件公司新思科技（Synopsys）正接受美国商务部调查。美国商务部认为，新思科技涉嫌向华为海思半导体部门提供芯片设计和软件，以便在中芯国际进行生产。不过，美国商务部尚未公
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
2022年4月7日，国产EDA企业芯和半导体发布了新品Hermes PSI。这是一个针对封装与板级信号及电源完整分析的EDA分析平台。Hermes PSI是芯和半导体发布的首款电源完整性分析工具。此次发布的2022版本首先专注于封装与板级的DC IR压降。它可以导入所有常见的封装与PCB设计格式，并为整个供电系统提供高效的直流电源完整性分析，使能用户检查直流电压降、电流和电流密度分布等。 Hermes PSI的仿真基于流程化操作、易于上手和设置，降低了用户的使用门槛。 通过仿真，该工具可以报告直
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
据外媒报道,美国商务部正调查全球最大的EDA公司新思科技(Synopsys),因为该公司涉嫌违法转让相关技术给华为和中芯国际。受此消息拖累,新思科技周三回吐早盘涨幅,终场收跌 1.32% 至每股 306.72 美元。消息人士指出,美国商务部正调查新思科技与中国的关联公司之合作,该公司涉嫌向华为海思半导体部门提供晶片设计和软体,以便在中芯国际进行生产。但截至目前,美国商务部的调查过程尚未公开。早在去年12月,新思科技披露称,已收到了美国商务部工业安全局 (BIS) 发出与“与某些中国实体交易”内容有关的传票
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
逼则反兵，走则减势。紧随勿迫，累其气力，消其斗志，散而后擒，兵不血刃，这是三十六计中“欲擒故纵”的精义，却被美国在EDA领域应用的游刃有余，中国也因此错失了发展国产EDA的20余年的重要时机，作为数千亿集成电路、万亿电子信息的必不可少的支撑产业，EDA被誉为芯片领域的“工业母机”，国产EDA的发展路长且艰。一、EDA是何方神圣为什么说EDA那么重要，EDA全称是电子设计自动化。打开芯片的封装外壳，在高倍显微镜下对其表面进行观察，将会看到无数规则摆放的器件和连线，这是芯片的版图。IC设计和制造这个版图的各个
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
数模混合 IC 中通常模拟电路是核心，数字电路用来控制模拟电路实现特定的算法。在 IC 设计部分，EDA 软件主要有模拟 IC 和数字 IC 的两大类设计软件。1.EDA是“半导体皇冠上的明珠”1.1. EDA 是用于 IC 设计生产的工业软件EDA 是用来辅助超大规模集成电路设计生产的工业软件。EDA 全称是电子设计自动化（Electronic Design Automation），是指用于辅助完成超大规模集成电路芯片设计、制造、封装、测试整个流程的计算机软件。随着芯片设计的复杂程度不断提升，基于先进工
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
回顾2021年中国ICT市场，“元宇宙、低代码、国资云、产业互联网、双碳”无疑是令人首先想到的关键词。那么，资深ICT产业观察者如何用一词表明自己的身份？答案是：国产EDA。相比上述关键词，EDA（集成电路设计工具）即便放大到全球范围，其市场都无法与前者比较。但市场规模并无法表明EDA的重要性。如何形容EDA？或许可将其比喻为生物圈的水，没有水，碳基生命便无法存活；没有EDA，全球几十万亿的数字经济也无法发展。也正是因为EDA如水一般润物无声，所以在中国ICT市场里，其几乎从未站在舞台的中央。但在2021
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
2002年，已在芯片业浸润多时的谢仲辉回到上海。他早年求学于台大，参与了新加坡政府一力扶持的特许半导体工厂的建立与运营。随着身边的同事逐渐回流大陆，他意识到国内的芯片工业正在飞速发展，急需富有经验的人才为国效力。于是，他选择了参加国家“909工程”的华虹。挑战是显而易见的：相比于国外的大客户，国内的芯片设计公司普遍弱小，一个月的订单量不过几十片、甚至更少，而芯片制造的前期流片投入却一点都不能少。光是一套掩模版就是几十万美金，让诸多设计从业者望而却步。为了降低客户的前期投入，谢仲辉和他的团队想到了一个办法—
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
研究方向一：三维纳米级电路可制造性设计方法及EDA技术进入纳米工艺节点，电路的物理结构对工艺容差和设计提出了新的挑战，可制造性和成品率成为集成电路高端芯片能否实现批量生产并盈利的最关键因素之一，可制造性设计EDA技术搭建了沟通电路设计与工艺制造的桥梁，可系统提升纳米芯片的良率和性能。实验室针对集成电路先进工艺制造和设计中存在的基础性、前瞻性核心问题，开展三维纳米级电路可制造性设计方法及EDA基础理论和关键技术研究，构建纳米加工与设计协同优化的具有自主知识产权的DFM软件平台，形成实现工艺热点检测和寄生参数
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
自主开发完成通用电磁模拟仿真分析软件EMbridge，满足电磁、机电器件需求。结合最新研发的算法成果显著提高了场分析的效率。创新提出的快速多阶敏感度算法、随机谱方法能够应对IC工业中工业偏差引入的随机影响。
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
EDA中心在极低功耗SoC设计方法学及关键EDA技术领域开展了年的研发工作，研究设计了亚阈值温度传感器、32位亚阈值SAPTL超前进位加法器、16位亚阈值B-SAPTL加法器、16x16亚阈值ASYN-B-SAPTL异步乘法器、动态可重构亚阈值逻辑等多款极低功耗电路IP，技术指标均优于文献报道的同类功能电路，研发了单元电路版图微调软件、电路结构自动评测工具、电路器件参数优化工具、快速High-σ蒙特卡洛分析工具、器件建模工具、PVT敏感的单元电路特征化工具等。极低功耗SoC设计方法学及关键EDA技术研究起
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
依托国家重大科技专项，EDA中心牵头编制了国内首个强制JYIP核标准《GJB7715-2012JY集成电路IP核通用要求》，建立IP核应用推广平台，开发IP核主观评测电子表格（IPQE），在此基础上，完成多款移动通信与数字媒体芯片IP核的数据封装和质量评测服务。《GJB7715-2012JY集成电路IP核通用要求》IP核应用推广平台典型IP核数据封装实例第三方IP核评测报告
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
EDA中心在PDK设计领域开展了十多年的研发工作，常年服务于国内外主流Foundry、各大EDA公司和IC设计公司。能够基于多种语言(Skill/Tcl/Python)开发适用于各种软件平台的PDK/oaPDK/iPDK。到目前为止，已经基于国内主流Foundry的28nm/40nm/65nm/0.11um eFlash/130nm/180nm/0.35um/1um/3um和700V BCD/TFT/CNT-FET等先进工艺成功开发了近20套兼容不同数据标准的商用PDK(包括大陆首套iPDK)。PDK交付
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
基于65/45/40/28纳米铜互连和28纳米高k金属栅CMP工艺及DFM设计规则，课题组开发了一套兼顾平坦化和寄生效应、完整兼容业界主流EDA工具的DFM仿真平台，该平台具有超大规模版图快速处理，ECP/CVD/PVD/CMP工艺模拟、热点输出与反标等功能。通过对版图进行CMP分析和检查，找出存在热点的区域进行冗余金属填充，并根据设计需求进行修正，形成CMP模拟与参数提取相结合的DFM优化流程。DFM平台解决了复杂超大版图快速并行处理的技术难题，可以满足65/45/40/28纳米全芯片规模版图处理的要求
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
研究65/45/40/28纳米铜互连ECP/CMP及32/28纳米HKMG CMP工艺，提出了耦合设计版图与CMP机理的新型高效CMP建模技术，开发了多节点铜互连平坦性叠层仿真工具和28纳米高k金属栅DFM解决方案，可动态模拟ECP/CMP、ILD0 CVD/CMP和Al PVD/CMP工艺演进过程，快速实现平坦性工艺偏差的提取和校正。该仿真工具通过了CMOS实测硅片数据验证，仿真精度和速度达到国际同类工具先进水平，可应用于全芯片平坦性工艺的检测分析和设计优化。CMP工艺仿真
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
针对国产EDA工具应用推广的平台化共性技术问题，研究基于国产EDA工具先进工艺设计参考流程，以及关键EDA工具的评测技术，包括EDA工具的功能对比、性能测试、可兼容性、稳定性、易用性等的测试验证，形成规范的EDA工具评测报告，以此促进国产EDA 工具的改进、更新和完善，并指导设计企业选用合适的EDA工具完成芯片设计。该研究内容获得北京市科技计划项目“国产EDA工具产业链应用推广示范平台”项目的支持。基于全定制设计流程的EDA评测技术：针对纳米工艺全定制设计流程的系列EDA工具开展EDA评测技术研
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
基于新型非易失存储的高能效终端架构技术：为解决资源受限物联网终端的“存储墙”问题，利用MRAM、PCM等新型存储器，构建异构非挥发存储架构。通过研究软、硬件协同的异构存储架构管理技术，达到降低内存功耗、减小I/O延时的目的。此项工作得到国家重点研发计划、北京市科技计划、中科院先导专项的支持。AI计算加速技术：GPU、ASIC、FPGA等AI加速器是实现高能效AI计算的重要手段，然而受限于移动计算环境对芯片面积、功耗等的要求，AI加速芯片片上缓存容量有限，当计算深度模型时需要频繁访问片外存储，因此“内存墙”
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
EDA中心硅集成验证技术，聚焦于利用EDA技术及设计、工艺、封测技术，实现多环节集成、交叉技术集成，解决高品质、高精度、新工程技术的难题。尤其在硅基芯片+光、+生物、+MEMS等跨学科创新领域，形成了独特的解决方案，并成功实现芯片功能验证。★ 设计与工艺集成 ★&nb
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
研发基于Web的EDA工具授权管理技术、安全可靠的网络架构及VPN解决方案，构建EDA软件管理系统，实现license的分时复用策略，解决昂贵EDA工具灵活授权问题。该系统支持EDA工具授权的全信息化管理模式，可实现License授权管理及分析服务，帮助用户优化EDA软件采购方案，降低用户软件成本。研究EDA资源的平台化技术与智能EDA计算技术，构建集成电路高性能EDA平台，实现SaaS化的EDA应用创新服务模式，平台提供从EDA工具授权、IP库选择、项目管理到高性能计算支撑等完整的云端芯片设计解决方案，
关键字：
EDA
UVS
UV APS
UVI
EDMPro
uv介绍
您好，目前还没有人创建词条uv!
欢迎您创建该词条，阐述对uv的理解，并与今后在此搜索uv的朋友们分享。
创建词条
关于我们 -
广告服务 -
企业会员服务 -
网站地图 -
联系我们 -
征稿 -
友情链接 -
手机EEPW
Copyright ©2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《电子产品世界》杂志社 版权所有 北京东晓国际技术信息咨询有限公司
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473
京ICP备12027778号-2 北京市公安局备案：1101082052 京公网安备11010802012473