- 高度先进制造环境提升产量材料与解决方案的领导厂商Entegris,Inc.,推出了下一代450mm晶圆承载盒解决方案(P2),这个解决方案能够安全可靠地运输半导体制程所需的450mm晶圆,供应至世界各地。450mmP2晶圆承载盒精确符合450mm设备标准、微粒产生量,且可减少清洁循环时间,可有效运送及处理SEMI?M1标准晶圆。
Entegris资深执行副总兼营运长ToddEdlund表示,当产业改用450mm晶圆,制造商也须面对处理晶圆的新挑战,以保持制造SEMI标准M1品质晶圆所需的洁净度。
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半导体 Entegris 晶圆
- Entegris, Inc.,一家为先进制造环境提供良率提升材料和相关解决方案的领先企业,日前发布了 VaporSorb™ 系列气体分子污染 (AMC) 过滤器的新产品。此款新型的“多合一”单过滤器可在半导体制造的化学机械研磨 (CMP) 工艺中去除关键 AMC。领先的过滤器品牌 VaporSorb 在半导体制造的关键步骤中主要用于洁净室环境和生产机台,是面向 CMP 生产机台的首款过滤器,可抵御弱酸以及其他污染物。
此款新型过滤器专为 CMP 机台设计,可为
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Entegris 半导体 VaporSorb
- Entegris Inc.是一家为先进制造环境提供良率提升材料和解决方案的领先企业,公司今日发布了 VaporSorb 系列气体分子污染 (AMC) 过滤器的衍生产品。VaporSorb 是领先的过滤器品牌,在半导体制造的关键步骤中主要用于洁净室环境和生产机台。VaporSorb 过滤器已发展为捕获气体有机物、碱基类和强酸的一体式过滤器。新型 VaporSorb TRK 添加了独特材料,是首款不仅能够捕获三大核心污染物,而且还能捕获第四类污染物(定义为弱酸的一组污染物)的过滤器。
此款新型过滤器
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Entegris VaporSorb 过滤器
- Entegris4月12日宣布,将在马萨诸塞州贝德福德建立专注于先进材料科学的Entegris i2M 中心(以下简称“i2M 中心”)。
该i2M 中心将成为新英格兰具有领导地位的研发和制造中心之一,专注于过滤介质、静电夹钳(静电吸盘)和受到专利保护的先进的低温涂层。这些技术对于研制诸多关键部件必不可少,这些部件将用于世界上要求最严格的半导体制造业。Entegris的产品可以将污染物控制在小至只能以原子的宽度进行测量的纳米水平。凭借着 Entegris 的产品可以生产先
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Entegris 半导体设备
- 中国上海/明尼苏达州明尼阿波利斯 CHASKA – 2006年 3 月 22日讯 - Entegris, Inc.(纳斯达克:ENTG)将携其业界领先的晶片和光罩处理产品参加本周在上海举行的 SEMICON China 2006 展览会(3 月 21 日 – 23 日)。Entegris 将在本周的展会上展示其四种领先的产品,它们分别是 300 毫米 FOSB(前面开口传输盒)、Spectra™ FOUP (前面开口一体盒)和 SMP 625 单光罩包装盒以及高级光罩 SMIF
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Entegris 其他IC 制程
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