Axcelis 推出 Purion H6 高束流离子注入机

Axcelis Technologies 近日推出了一款全新的高束流离子注入设备，精准面向下一代半导体制造需求。公司表示，其 Purion H6 系统旨在为先进制程节点提供更高纯度、更精密的工艺控制以及更强的生产效率。

对于关注半导体设备创新的《eeNews Europe》读者而言，此次发布意义重大：离子注入仍是逻辑芯片、存储器、图像传感器及成熟制程中不可或缺的关键工艺步骤。在剂量控制精度、污染抑制和产能方面的改进，将直接影响晶圆厂的良率、拥有成本（Cost of Ownership）和整体运营效率——这也是IDM厂商与代工厂共同关注的核心议题。

基于成熟的 Purion H 平台升级

Purion H6 于2026年2月4日正式发布，是在 Axcelis 已广受市场认可的 Purion H 系列平台基础上开发而成，新增多项技术以支持先进半导体器件制造。该系统融合了高产能离子束线，并在离子源寿命、颗粒控制和剂量计量等方面进行了优化，兼顾性能表现与运营效率。

据 Axcelis 介绍，Purion H6 被设计为单一平台即可覆盖广泛的高束流注入应用，包括先进逻辑与存储芯片、图像传感器，以及对成本控制和设备稼动率（uptime）要求极高的成熟制程领域。公司强调，此次重新设计带来了更简便的操作性、更高的系统可靠性以及更低的拥有成本。

公司总裁兼首席执行官 Russell Low 博士 表示：

“我们非常高兴推出新一代高束流离子注入机 Purion H6，它专为应对客户在先进半导体器件制造中最严峻的挑战而打造。Axcelis 始终聚焦于创新的注入解决方案，以提供推动逻辑、先进存储、图像传感器及成熟技术市场实现关键器件突破所必需的工艺性能与拥有成本优势。”

聚焦剂量控制与生产效率

Axcelis 将 Purion H6 的核心优势聚焦于几项关键技术：

• 新一代剂量控制系统：提升工艺重复性与晶圆安全性，同时降低运营成本；

• 通过束线优化实现的增强型颗粒控制：有效减少污染、提高良率，并降低预防性维护频率。

此外，该系统还集成了 Axcelis 自主研发的 Eterna ELS7 离子源技术。公司称，该技术可提升离子束的稳定性与重复性，延长离子源寿命，并简化维护流程。在产能方面，Axcelis 声称 Purion H6 具备同类产品中最高的束流强度，可实现业界领先的吞吐量，树立了高束流注入设备的新标杆。

执行副总裁 Greg Redinbo 博士 补充道：

“该平台是在与客户紧密协作下开发的，树立了离子注入在纯度、精度和生产效率方面的新基准。新系统引入了创新的剂量控制技术和增强型束线优化方案，在实现卓越注入工艺控制的同时，提供了业界领先的生产效率和资本利用效率。”

市场展示与下一步计划

Axcelis 计划在 2026年2月11日至13日于首尔 COEX 会展中心举行的 SEMICON Korea 展会上首次公开展示 Purion H6 系统，展位号为 D522。更多详细信息（包括产品视频）已在其官网发布。