埃赛力达推出适用于340 nm-360 nm波长范围的LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜

埃赛力达科技有限公司（Excelitas Technologies^®）是一家创新的致力于改变人们生活的先进技术供应商，为生命科学、先进工业、下一代半导体、航空航天和国防终端领域的全球知名品牌提供服务。该公司近期推出了适用于252 mm中等焦距范围的LINOS^® UV F-Theta Ronar低释气透镜。新款LINOS F-Theta镜头专为配合埃赛力达 LINOS UV 扩束镜而设计，与传统产品相比具有更优异的耐用性，可支持激光材料加工中所需的更高的UV脉冲能量和更短的激光脉冲，可广泛用于半导体、晶圆加工、电子显示器和太阳能电池制造等领域。

该透镜通过显著减少辅助材料和洁净装配工艺，实现了优异的耐用性。其独特的UV设计采用了高品质熔融石英透镜和高端宽带透镜镀膜，不仅确保了出色的光学性能，还有效减少了背向反射。其优化的包装和防尘材料进一步提升了镜头的低释气性能。此外，埃赛力达还优化了生产、镀膜、物流、仓储和装配流程，从源头到成品全程降低污染风险，确保组件在整个工作流程中的高质量。

主要规格和特性：

●   减少释气：采用先进的设计和生产工艺，实现优异的低释气性能

●   优化设计：适用于340 nm和 360 nm紫外波长，采用高端宽带镀膜

●   精确的扫描性能： 扫描场内的光斑尺寸变化较小，在10 mm扫描光圈下的扫描场范围为 142 mm² x 142mm²米，15 mm扫描光圈下的光斑尺寸可小至 11 μm

●   改进的处理能力：可应对高功率和短脉冲应用需求

●   长期光学稳定性：采用先进技术制造，确保镜头的耐用性和可靠性

●   优化背向反射：有效减少扫描仪镜面损伤，并延长使用寿命

●   M85x1机械接口：便于轻松集成到各种系统中

“凭借其创新的减少释气设计和扫描场内光斑尺寸变化，LINOS UV F-Theta Ronar低释气透镜重新定义了激光材料加工的光学性能和可靠性。我们很高兴将这一解决方案纳入LINOS F-Theta-Ronar产品系列中。”埃赛力达产品经理Matthias Koppitz表示