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Intel:65nm已出货4000万 超越90nm

  • 2006年9月对Intel来说是一个非常重要的月份,因为其65nm处理器的出货量首次超过了90nm,达4000万颗,而AMD还没有拿出一颗。 Otellini在IDF上称,到下周,Intel的65nm处理器出货量就将达到4000万这一具有里程碑意义的数字,不过其中只有大约500万颗是新的Core架构产品,NetBurst和Yonah架构仍占据着7/8的Intel产品。 Intel还特别提到了服务器方面,因为Woodcrest核心Xeon 5100是率先出货的Core架构处理器,不过其出货量目前也
  • 关键字: 06回顾  65nm  Intel  处理器  

65nm对决90nm!Intel技术不只领先一点

  • 65nm对决90nm!Intel技术不只领先一点          每一次工艺制程的变更,都将带来处理器性能的飞跃。     在更新的制程工艺上,Intel这一次稍稍领先。Intel最新的65nm处理器已经在IDF大会上亮相。65纳米(1纳米等于十亿分之一米)制程融合了高性能、低功耗晶体管、第二代英特尔应变硅、高速铜互连以及低-K电介质材料。采用65纳米制程生产芯片将
  • 关键字: 06回顾  65nm  90nm  Intel  处理器  

65nm对决90nm!Intel技术不只领先一点

  • 每一次工艺制程的变更,都将带来处理器性能的飞跃。     在更新的制程工艺上,Intel这一次稍稍领先。Intel最新的65nm处理器已经在IDF大会上亮相。65纳米(1纳米等于十亿分之一米)制程融合了高性能、低功耗晶体管、第二代英特尔应变硅、高速铜互连以及低-K电介质材料。采用65纳米制程生产芯片将使英特尔能够将当前单个芯片上的晶体管数量再翻一番。65nm晶体管不仅在尺寸上比90nm产品更小,而且还会降低能耗并减少电流泄漏。   &n
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65nm半导体工艺发展策略

  • 摘要: 本文研究Altera在65nm工艺上的工程策略,介绍公司如何为客户降低生产和计划风险,并同时从根本上提高密度、性能,及降低成本和功耗。关键词: 65nm;FPGA;功耗 引言Altera在65nm半导体制造工艺上的发展策略是充分利用先进的技术和方法,以最低的成本为客户提供性能最好的器件,同时降低客户风险,保证产品尽快面市。Altera在130nm和90nm器件上的市场份额表明,有效控制高端半导体技术中存在的风险,能够提高FPGA体系结构在市场上的受欢迎程度。因此,早自2003
  • 关键字: 0610_A  65nm  FPGA  单片机  功耗  嵌入式系统  杂志_技术长廊  

英特尔发布双核至强®7100系列处理器平台

  •   巩固企业级服务器市场领先地位 八款针对多路服务器产品的全新的双核英特尔®至强®7100系列处理器平台揭开神秘面纱。代号为“Tulsa”的双核英特尔®至强®7100系列处理器平台,以其顶级的可靠性和领先的性能,满足现代企业诸多复杂系统应用的需求。与此同时,由于采用能耗低至95瓦的处理器,大大降低了能源成本,提升了系统效能。双核英特尔®至强®7100系列处理器的发布进一步满足了企业级市场的应用需求,将英特尔公司今年夏季服务器平台新品的强势发布再一
  • 关键字: 65nm  7100系列  E8501  Tulsa  处理器平台  单片机  汽车电子  嵌入式  嵌入式系统  三级缓存  双核  通讯  网络  无线  英特尔  至强  汽车电子  

XILINX宣布推出PLANAHEAD 8.2设计套件

  • 进一步扩展 65-NM VIRTEX-5 FPGA性能优势 新版软件可提高性能、加快设计收敛速度并提供了更好的信号完整性分析能力  赛灵思公司(Xilinx, Inc. (NASDAQ:XLNX)宣布即日起推出PlanAhead™ 分层设计和分析软件8.2版。新版软件支持赛灵思公司最新的Virtex™-5 LX系列65nm FPGA器件。配合赛灵思公司的集成软件环境(ISE͐
  • 关键字: 65nm  FPGA  ISE  PlanAhead  Virtex-5  Xilinx  单片机  嵌入式系统  赛灵思  通讯  网络  无线  

65nm和超越65nm的IC制造挑战

  • 65nm和超越65nm的IC制造挑战Manufacturing Challenges:65nm And Beyond全球IC制造业在2004年取得辉煌业绩,销售总额达到2180亿美元,提前完成了国际半导体技术发展路线图(ITRS)的90nm节点进程,十多座300mm晶圆厂正在投产或共建,全球以Intel为首的十大IC供应商都在加紧研发65nm工艺,Intel、TI、三星、东芝、台积电开始小批量生产65nm工艺的IC,谋求技术领先,抢占市场。根据2004的修正的ITRS最新技术进程可知,90nm节点正好在2
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65nm介绍

半导体制造工艺,指集成电路内电路与电路间的距离。在处理器领域,制造工艺可以看作是处理器核心中每一个晶体管的大小。早期制作工艺采用微米作为单位,随着近两年工艺技术的进步,包括处理器、内存、显卡等芯片的制作工艺已经全面采用更小的纳米单位,而65nm工艺是处理器领域中先进的制造工艺。 在生产中一般采用的生产方式是光刻,光刻是在掩模板上进行的,宏观上讲,只要提高掩模板的分辨律就能刻出更多MOS管了, [ 查看详细 ]

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