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光刻胶 文章

中国半导体产业因光刻胶失色

  • 能让显示屏幕绚丽多彩的光刻胶,仍是中国半导体产业之“痛”。该如何打破欧美及日本等国家和地区的封锁与垄断?
  • 关键字: 光刻胶  半导体  

光刻胶材料的重大突破 极紫外光刻迈向实用

  • 新式半导体光刻技术中,极紫外光刻(EUV)被认为是最有前途的方法之一,不过其实现难度也相当高,从上世纪八十年代 ...
  • 关键字: 光刻胶  极紫外光刻  

SEMI:半导体材料市场反弹至创新的记录

  •   根据SEMI于SEMICON West上最新的数据报道,由于IC出货量的持续增加,导致半导体材料用量己经回到近08年水平,但是预期2011年的增速减缓。   2010年总的半导体前道材料(fab Materials)将由09年的178.5亿美元(与08年相比下降26,2%)提高到217.1亿美元,但仍未超过2008年241.9亿美元水平 。这是由SEMI分析师Dan Tracy在7月12日下午的年会上公布的数据。   在2010年中增长最快是硅片(32%up,达94.1亿美元),紧接着是光刻胶(2
  • 关键字: 半导体材料  硅片  光刻胶  

TFT高性能光刻胶国产化势在必行

  •   TFT-LCD产业是当今产业界几个高成长产业之一。近10年来,日本、韩国及我国台湾等国家和地区,已经为它投资了上千亿美元,形成地域相当集中、规模相当巨大的产业集群。   我国光刻胶用量逐年增加   中国液晶产业始于1980年,起步并不晚。但是我们长期限于TN、STN-LCD。在2003年后才真正开始大规模建设TFT-LCD生产线,目前已经量产的厂家主要是京东方、上广电、龙腾和深超光电4家,产能约占全球总产能的4%。   目前我国在建和待建的大尺寸TFT-LCD生产线共有8条,其中,京东方除了规划
  • 关键字: 液晶  TFT-LCD  光刻胶  

华飞微电子:国产高档光刻胶的先行者

  •   光刻胶是集成电路中实现芯片图形转移的关键基础化学材料,在光刻胶的高端领域,技术一直为美国、日本厂商等所垄断;近年来,本土光刻胶供应商开始涉足高档光刻胶的研发与生产,苏州华飞微电子材料有限公司就是其中一家。   据华飞微电子总工程师兼代总经理冉瑞成介绍,目前华飞主要产品系列为248nm成膜树脂及光刻胶,同时重点研发193nm成膜树脂及光刻胶和高档专用UV成膜树脂及光刻胶。   冉瑞成表示,248nm深紫外(DUV)光刻胶用于8-12英寸超大规模集成电路制造的关键功能材料,目前的供应商基本来自美国、日
  • 关键字: 光刻胶  集成电路  芯片  半导体材料  
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光刻胶介绍

光刻胶-正文   又称光致抗蚀剂,由感光树脂、增感剂(见光谱增感染料)和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后,在曝光区能很快地发生光固化反应,使得这种材料的物理性能,特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理,溶去可溶性部分,得到所需图像(见图)。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂,品种较多。根据其化学反应机理和显影原理, [ 查看详细 ]

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