- 近日，华中科技大学与湖北九峰山实验室的研究团队在光刻胶技术领域取得重大进展，成功突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。在半导体制造环节，光刻胶是不可或缺的材料，其质量和性能是影响集成电路电性、成品率及可靠性的关键因素。但光刻胶技术门槛高，市场上制程稳定性高、工艺宽容度大、普适性强的光刻胶产品屈指可数。当半导体制造节点进入到100nm甚至是10nm以下，如何产生分辨率高且截面形貌优良、线边缘粗糙度低的光刻图形，成为光刻制造的共性难题。为此，华中科技大学与九峰山实验室联合研究团队通过巧妙的化
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国产 光刻胶
- 4月2日消息，据湖北九峰山实验室官微消息，九峰山实验室、华中科技大学组成联合研究团队，支持华中科技大学团队突破“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”技术。据介绍，该研究通过巧妙的化学结构设计，以两种光敏单元构建“双非离子型光酸协同增强响应的化学放大光刻胶”，最终得到光刻图像形貌与线边缘粗糙度优良、space图案宽度值正态分布标准差（SD）极小（约为0.05）、性能优于大多数商用光刻胶。且光刻显影各步骤所需时间完全符合半导体量产制造中对吞吐量和生产效率的需求。作为半导体制造不可或缺的材料，光刻胶质量
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光刻胶
- 日本芯片材料厂商Resonac的首席执行官Hidehito Takahashi正在为日本分散的芯片材料行业的另一轮整合做准备，并表示公司可能会出手收购JSR的关键股份。source：ResonacHidehito
Takahashi表示，JIC（日本投资公司）斥60亿美元收购全球最大光刻胶制造商JSR，这将促进日本供应链急需的变革。他说，Resonac是由Showa
Denko （昭和电工）和Hitachi Chemical （日立化成）合并而成的化学品集团，正在考虑如何在JSR的未来中发挥积极作
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光刻胶
- JSR捷时雅株式会社自1979年4月开始销售光刻胶，至今向半导体行业供应光刻材料、CMP材料和封装材料等已有四十余载。日本JSR、东京日化、信越化工几近掌握着全球EUV光刻胶的市场份额。此次JSR如若成功被收购，或将对全球光刻胶市场带来重要影响。看重JSR这块香饽饽，JIC准备收购6月24日，日经新闻报道，日本政府支持的日本投资公司（JIC）正商谈以1万亿日元收购JSR。日本投资公司计划最早今年提出初步收购意向。如果进展顺利，JSR可能会在2024年被东京证交所摘牌。官方资料显示，JSR成立于1957年，
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JSR 光刻胶
- 据报道，三星首次引入韩国本土公司东进世美肯（Dongjin Semichem）研发的EUV光刻胶（EUV PR）进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。在2019年经历与日本的光刻胶等关键原料的供应风波之后，三星就在尝试将关键原料的供应本土化，经过三年的努力，韩国实现了光刻胶本地化生产。在日本限制出口、三星尝试重构EUV光刻胶的供应链之后，东进世美肯就已开始研发EUV光刻胶，并在去年通过了三星的可靠性测试，随后不到一年就被应用于三星的大规模生产线。不过，EUV光刻胶可用于3-50道程序，目前
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三星 韩国 EUV 光刻胶
- 12 月 4 日消息，据 ETNews 消息，三星电子首次引入东进世美肯半导体的光刻胶进入其量产线，这也是三星进行光刻胶本土量产的首次尝试。不过考虑到三星与海外光刻胶供应商的关系，目前具体产量尚不清楚，且三星是否会额外引进其他品种的光刻胶也并没有得到回应。报道称，三星电子已将韩国公司开发的用于高科技工艺的极紫外光刻胶（PR）引入其大规模生产线。2019 年 7 月，日本方面宣布限制向韩国出口包括含氟聚酰亚胺、光刻胶以及高纯度氟化氢在内的三项重要半导体及 OLED 面板原材料，经过三年的努力，韩国实现了光刻
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三星 光刻机 光刻胶
- 3月3日消息，日媒报道，当地时间3月1日14时，位于日本宫崎县延冈市水尻町的旭化成集团“Kayak Japan”东海工厂突然发生爆炸和火灾。目前已确认，事故造成至少一人受伤、一人失踪。据旭化成延冈分公司透露，该工厂主要制造炸隧道、矿山等工程、国防用的火药材料，爆炸发生实验设施内，具体愿意还在调查中。旭化成（Asahi
Kasei）成立于1922年，总部位于日本东京，是日本排名前三位的综合性化工企业集团，集团下设化学、建筑、电子、医疗四大业务板块，年销售额约合1200亿元人民币。目前旭化成是世界最大
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日本 光刻胶
- 什么是光刻胶？为什么它在半导体领域如此之重要？光刻胶又叫光致抗蚀剂，制造一块芯片往往要对硅片进行数十次光刻，除了用到光刻机，还要添加光刻胶作为抗腐蚀涂层。这是一种高频刚需的材料，光刻胶生产技术较为复杂，品种规格较多，在电子工业集成电路的制造中，对所使用光刻胶有严格的要求。说到材料就进入了今天的主题，我们不得不接受一个残酷的现实，中国大陆不仅造不出光刻机、光刻胶领域也被卡脖子了。今年五月份，日本对中国光刻胶提出了断供，直接导致国内多家晶圆厂将会面临大缺货的处境，按照工艺的先进程度，光刻胶依次分为G线、I线、
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光刻胶
- 最近，关于日本光刻胶或断供部分国内芯片企业的消息，不时地传出。原因在于日本的光刻胶产能没有提升，且全球第五大光刻胶生产企业信越化学（日本企业）KrF光刻胶福岛工厂关闭，产能受限，但全球芯片的产能在不断的提升，于是光刻胶也开始供不应求了。 相应的，这些光刻胶厂商肯定优先供应大客户，中国的这些小客户自然优先级排在后面，所以也就有可能面临断供的风险。 很多人表示，断供能够逼着我们的光刻胶前进，话是这样没错，但说实话，目前国内光刻胶技术与日本或者说国际领先水平差太远，一旦断供，国产顶不上，影响还是很大的。
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- 2019年5月份时，美国将华为列入到所谓的实体名单，之后在2020年，又对华为进行了两次无理的打压，使得华为在芯片方面难以得到供应，甚至连芯片代工也无法实现。正是因此，华为在2020年11月份，将荣耀整体出售，而华为的手机业务也受到很大的影响，因为芯片供应短缺，使得华为的手机市场份额，已经不再世界前五。不过我们看到，华为已经找到了新的赛道，那就是智能电动汽车领域，华为给自己的定位，是成为该领域的增量部件提供商，这与手机业务的市场策略很不一样。在智能手机上，华为的角色是一家整机厂商，其定位是产业链的下游；而
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- 虽然将会有更多用于EUV光刻的光刻胶制造商。但是目前这个市场是日本公司垄断的。目前只有两家芯片制造商掌握了使用EUV极紫外线辐射光刻的半导体光刻技术，但是毫无疑问，这就是光刻技术的未来。与任何未来一样，它为一些光刻材料市场开拓者提供了在新市场中建立自己的机会。尤其是目前由两家日本公司生产使用EUV光刻机所使用的技术处理材料，而其中一家是著名的Fujifilm富士胶片公司。富士胶片控股公司和住友化学将在2021年开始为下一代芯片提供光刻材料，这可能有助于减小智能手机和其他设备的芯片尺寸，并使它们更加节能。这
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EUV 光刻胶
- 光刻胶是利用光化学反应经光刻工艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移媒介。作用原理是利用紫外光、准分子激光、电子束、离子束、X
射线等光源的照射或辐射,使其溶解度发生变化的耐蚀刻薄膜材料。光刻胶主要用于集成电路和半导体分立器件的微细加工，同时在平板显示、LED、倒扣封装、磁头及精密传感器等制作过程中也有着广泛的应用。光刻胶又称光致抗蚀剂，由主要成分和溶剂构成，当前光刻胶主要使用的溶剂为丙二醇甲醚醋酸酯（PMA），占光刻胶含量约为80%-90%。主要成分包括树脂、单体、光引发剂及添
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光刻胶
- 无法制造纯国产的高端芯片，是国人心中隐隐的痛！目前来说，阻碍国产高端芯片的最大瓶颈就是极紫外光刻机。但是，即使有了极紫外光刻机，也需要光刻胶和掩膜版来进行配套才行。一、光刻机不是直接刻蚀芯片正如上一个关于光刻机的视频所说，芯片生产用的光刻机，只是起到曝光的作用，并不进行刻蚀。要想用光刻机进行直接刻蚀，必然面临以下几个难题。首先，要把激光功率做到足够大，需要把硅或一些金属氧化物直接气化剥离。目前来说，波长越短的激光光源制造越困难，实现大功率越难，现有的紫外、极紫外光源难以产生足够强的激光。尤其是极紫外光源，
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- 作为半导体卡脖子的技术之一,很多人只知道光刻机,却不知道光刻胶的重要性,这个市场也是被日本及美国公司垄断,TOP5厂商占了全球85%的份额。国产光刻胶此前只能用于低端工艺生产线中,能做到G 线(436nm)、I 线 (365nm)水平,目前主要在用的ArF光刻胶还是靠进口,EUV光刻胶目前还没有公司能生产,基本上都控制在日本公司手中。不过EUV光刻胶也不是急需的,因为国内目前还没有EUV工艺量产,193nm的ArF光刻胶更加重要,目前国内有多家公司正在攻关中,这种光刻胶可以用于28nm
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美国 日本 光刻胶
- 近年来,虽然中国在芯片设计领域有了突飞猛进的发展,涌现出了一批以华为海思为代表的优秀的芯片设计企业,但是在芯片制造领域,中国与国外仍有着不小的差距。不仅在半导体制程工艺上落后国外最先进工艺近三代,特别是在芯片制造所需的关键原材料方面,与美日欧等国差距更是巨大。即便强大如韩国三星这样的巨头,在去年7月,日本宣布限制光刻胶、氟化聚酰亚胺和高纯度氟化氢等关键原材料对韩国的出口之后,也是被死死的“卡住了脖子”,急得如热锅上的蚂蚁,却又无可奈何。最后还是日本政府解除了部分限制之后,才得以化解了危机。而在美国制裁中兴
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光刻胶介绍
光刻胶-正文 又称光致抗蚀剂，由感光树脂、增感剂（见光谱增感染料）和溶剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体。感光树脂经光照后，在曝光区能很快地发生光固化反应，使得这种材料的物理性能，特别是溶解性、亲合性等发生明显变化。经适当的溶剂处理，溶去可溶性部分，得到所需图像（见图）。光刻胶广泛用于印刷电路和集成电路的制造以及印刷制版等过程。光刻胶的技术复杂，品种较多。根据其化学反应机理和显影原理， [
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