纳米尺度芯片Art DFM仿真平台
基于65/45/40/28纳米铜互连和28纳米高k金属栅CMP工艺及DFM设计规则，课题组开发了一套兼顾平坦化和寄生效应、完整兼容业界主流EDA工具的DFM仿真平台，该平台具有超大规模版图快速处理，ECP/CVD/PVD/CMP工艺模拟、热点输出与反标等功能。通过对版图进行CMP分析和检查，找出存在热点的区域进行冗余金属填充，并根据设计需求进行修正，形成CMP模拟与参数提取相结合的DFM优化流程。DFM平台解决了复杂超大版图快速并行处理的技术难题，可以满足65/45/40/28纳米全芯片规模版图处理的要求，该平台性能达到业界先进水平，已通过代工厂和科研院所的严格测试与验证，各项指标均达到工业界使用标准。DFM平台可以集成第三方研究成果，模拟输出能够与业内主流寄生参数提取工具无缝连接，用于准确提取寄生参数，提高时序的收敛性。
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纳米芯片DFM平台
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