- 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到纳米压印光刻（NIL），这种方法承诺将详细设计的图案印在基板上。科技巨头佳能最近推出了其NIL工具，但专家质疑它是否能真正挑战极端紫外线（EUV）光刻术的主导地位。纳米压印光刻是如何工作NIL的核心是一个简单的概念，尽管其执行在技术上可能具有挑战性。该过程涉及使用模具或模板在基板上物理“冲压”出图案。简要过程如下：1. 创建一个具有纳米级模式的模板。2.
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纳米压印光刻 半导体工艺制程
- 佳能于 10 月 13 日宣布，已将 FPA-1200NZ2C 商业化，这是一种纳米压印半导体制造系统，利用纳米压印光刻（NIL）技术实现尖端半导体电路的形成，并于当天开始接受订单。纳米压印半导体制造设备「FPA-1200NZ2C」传统的投影曝光设备（例如 ArF 和 EUV）通过用穿过图案掩模的光照射晶圆上的抗蚀剂来形成电路图案，但使用 NIL 时，电路被印刷在掩模（模板）本身上。通过形成不规则形状并将它们像邮票一样压在抗蚀剂上。通过从母版创建副本，可以多次使用掩码，这具有降低设备成本的优点。该公司的
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佳能 纳米压印光刻
纳米压印光刻介绍
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