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纳米压印光刻是否是半导体制造的未来一步？

• 在半导体制造的高科技世界中，在纳米尺度上创建复杂图案的能力至关重要。随着对更小、更快、更高效的电子设备的需求不断增长，对先进光刻技术的需求也在增加。谈到纳米压印光刻（NIL），这种方法承诺将详细设计的图案印在基板上。科技巨头佳能最近推出了其NIL工具，但专家质疑它是否能真正挑战极端紫外线（EUV）光刻术的主导地位。纳米压印光刻是如何工作NIL的核心是一个简单的概念，尽管其执行在技术上可能具有挑战性。该过程涉及使用模具或模板在基板上物理“冲压”出图案。简要过程如下：1. 创建一个具有纳米级模式的模板。2.
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