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深紫外光刻机 文章 进入深紫外光刻机技术社区

美国发起的对华联合出口限制留下漏洞?

  • 据报道,荷兰和日本已与美国达成协议,共同限制向中国出口芯片制造工具,这将进一步削弱中国半导体行业的发展,因为除了限制中国制造商使用 EUV 光刻机外,进一步限制其使用浸没式 DUV 光刻机。但在美国对中国发起的严格出口限制中,中国半导体企业是否可以利用任何关键漏洞来缓冲冲击?这似乎是一个值得仔细研究的问题。近年来,美国加大了对中国半导体产业发展的打压力度。不仅设计了各种策略和行动,还动员了盟友的参与。在 2022 年 10 月对向中国出口先进芯片制造工具和技术实施全面出口限制后,美国急于让拥有 ASML
  • 关键字: EUV  DUV  深紫外光刻机  
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深紫外光刻机介绍

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