- 微影设备制造商ASML近期宣布，接获美国一家主要客户十五部EUV机台订单，并将于今年底开始陆续出货;同时间，日本光阻材料大厂JSR也与IMEC合资成立新公司，致力生产EUV微影所需的光阻剂，为EUV微影技术的商用发展揭橥新的里程碑。
极紫外光微影(EUV Lithography)技术发展大有斩获。半导体设备供应商艾司摩尔(ASML)日前公开宣布，该公司与美国一家主要客户已签属协议书，将提供至少十五台的最新一代EUV微影系统机台，以支援不断增加的制程开发活动和未来世代制程的试量产。
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ASML 微影系统
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