- IMEC将于2月23日至27日在美国加州San Jose举行的SPIE先进微光刻会议上展现半导体光刻研究中最新的研发突破。
IMEC将在会上发表26片论文。这些论文报道了IMEC及其世界领先的EUV和双版光刻技术合作伙伴在32nm以下节点光刻技术中所获得的成果。光刻技术的一系列挑战都在这些论文中有所涉及，包括材料、制造工艺、测量、检测
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IMEC 微光刻 半导体
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