- 于本周举行的2024年IEEE国际超大规模集成电路技术研讨会(VLSI Symposium)上,比利时微电子研究中心(imec)首次展示了具备电性功能的CMOS互补式场效晶体管(CFET)组件,该组件包含采用垂直堆栈技术形成的底层与顶层源极/汲极金属接点(contact)。虽然此次研究的成果都在晶圆正面进行接点图形化,不过imec也展示了改从晶圆背面处理接点图形的可行性—这能大幅提升顶层组件的存活率,将其从11%提升到79%。 CMOS互补式场效晶体管(CFET)组件搭配中间介电层(MDI)以及
- 关键字:
imec 单片式 CFET 功能组件 垂直堆栈金属接点
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