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光刻试验样机 文章 进入光刻试验样机技术社区

我科学家另辟蹊径造出9纳米光刻试验样机

  • 记者从武汉光电国家研究中心获悉，该中心甘棕松团队采用二束激光在自研的光刻胶上突破了光束衍射极限的限制，采用远场光学的办法，光刻出最小9纳米线宽的线段，实现了从超分辨成像到超衍射极限光刻制造的重大创新。
  • 关键字： 光制造技术  9纳米  光刻试验样机  
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光刻试验样机介绍

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