光刻行业 文章 进入光刻行业技术社区

光刻行业遭双重打击 下一代技术面临难题

• 　　曾经看来大有希望的远紫外(EUV)光刻技术面临着重重困难，193纳米沉浸式技术似乎成为了必然的选择，但成本高昂，而且很难延伸到16纳米节点以下。半导体光刻工艺正面临着技术和成本方面的双重压力。  　　半导体光刻工艺面临技术和成本压力  　　光刻行业正遭到双重打击：对用于集成电路生产的远紫外光刻技术而言，机会窗口在慢慢关闭；而最有希望的一项替代技术即193纳米沉浸式光刻技术却成本高昂，于是行业陷入一片混乱当中。成本增加会对芯片尺寸的继续缩小带来严重的影响。  　　在近期国际
• 关键字： 光刻行业  下一代技术  消费电子  其他IC  制程  消费电子