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DIGITIMES Research:TSV 3D IC面临诸多挑战

  •   2016年将完成多种半导体异质整合水平   TSV3DIC技术虽早于2002年由IBM所提出,然而,在前后段IC制造技术水准皆尚未成熟情况下,TSV3DIC技术发展速度可说是相当缓慢,DIGITIMESResearch分析师柴焕欣分析,直至2007年东芝(Toshiba)将镜头与CMOSImageSensor以TSV3DIC技术加以堆栈推出体积更小的镜头模块后,才正式揭开TSV3DIC实用化的序幕。   于此同时,全球主要芯片制造商制程技术先后跨入奈米级制程后,各厂商亦警觉到除微缩制程技术将面临物
  • 关键字: 英特尔  半导体  TSV3DIC  
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