- 半导体制程技术持续精进，随之而来的制程偏移(ProcessVariation)及小尺寸效应，恐导致设计结果的不确定性，因此如何建立完善的统计模型(StatisticalModel)，同时在ICDesign的阶段能够正确地应用统计模型，并且可以进行快速准确的良率分析，有效避免电路性能与良率(Yield)遭受影响，可谓当前重大课题。
回顾2012年6月落幕的DesignAutomationConference(DAC)2012大会，个中最大亮点，无疑正是ProPlus领先EDA业界推出的「整合良率导
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ProPlus EDA NanoYield
- 概伦电子科技有限公司今日宣布推出其良率导向设计(DFY)平台的新产品NanoYield，该产品以IBM授权的专利技术为基础，旨在通过高效的良率分析和设计优化，提升高端芯片设计的竞争力。
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概伦 DFY NanoYield
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