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采用创新思维，Cadence新工具让45nm IC量产提速！

• 　　45nm节点被称为IC设计的分水岭，因为在这一节点，不仅半导体材料特性、光刻技术已经接近极限，而且EDA工具也要面临更高层次抽象、创新平台、DFM、多电源域等诸多新挑战，针对这一节点上的EDA工具开发需要更多创新的思维和策略。因为挑战很多，所以业界人士对45nm的芯片设计和制造未来忧心忡忡。不过，欣喜的是，在9月11日硅谷的CDNLive!用户会议上，Cadence向领先的半导体设计者和经理们展示了自己的45nm设计流程。其对应的产品Cadence Encounter数字设计平台因采用了创新的思维和策
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