- 对于28纳米及以下节点，各种新的设计要求使工程师不得不调整传统的数字电路板图设计和验证流程。尤其值得一提的是，过孔的使用受到了很大的影响。新的过孔类型已推出，双重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的设计技巧的加入不仅使过孔的使用显著增多
- 关键字：
条状过孔 双重成像 FinFETS 矩形过孔 布局布线
- 专家指出：英特尔公司在把FinFETs元件带入生产浪潮上可能会有多达五年的领导地位。一个双外延工艺，并严格控制其他步骤，预示着对其它公司迅速赶超英特尔的领导地位是一个大的挑战。
- 关键字：
英特尔 晶圆 FinFETs
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